[發(fā)明專利]刻蝕清洗工藝中的硅片搬送方法及設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410127052.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103915367A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳智翔;張弢;劉鵬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/677 | 分類號(hào): | H01L21/677 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吳世華;林彥之 |
| 地址: | 201210 上海市浦*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 刻蝕 清洗 工藝 中的 硅片 方法 設(shè)備 | ||
1.一種刻蝕清洗工藝中的硅片搬送方法,其特征在于,包括:
裝載盒輸送機(jī)械手將裝載有目標(biāo)硅片的硅片盒搬送到存儲(chǔ)架的輸出口處;
通過設(shè)置在設(shè)定搬送路徑上的位置校正單元,校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置,以在所述輸出口與裝載推進(jìn)器之間搬送所述目標(biāo)硅片的過程中,使硅片搬送機(jī)械手夾緊所述目標(biāo)硅片防止跌落。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述位置校正單元設(shè)置在位于所述存儲(chǔ)架的搬送側(cè)邊上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述通過設(shè)置在設(shè)定搬送路徑上的位置校正單元,校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置包括:在硅片搬送機(jī)械手將所述輸出口的所述目標(biāo)硅片加載到裝載推進(jìn)器上的過程中,通過位置異常的所述目標(biāo)硅片與所述位置校正單元的物理接觸,以校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述通過設(shè)置在設(shè)定搬送路徑上的位置校正單元,校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置包括:在硅片搬送機(jī)械手將卸載推進(jìn)器上的所述目標(biāo)硅片搬送到所述輸出口的過程中,通過位置異常的所述目標(biāo)硅片與所述位置校正單元的物理接觸,以校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述位置校正單元為一棒狀塊結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述位置校正單元的材料為特氟龍。
7.一種刻蝕清洗工藝中的硅片搬送設(shè)備,其特征在于,包括:裝載盒輸送機(jī)械手、硅片搬送機(jī)械手、位置校正單元;所述裝載盒輸送機(jī)械手將裝載有目標(biāo)硅片的硅片盒搬送到存儲(chǔ)架的輸出口處;所述硅片搬送機(jī)械手用于在所述輸出口與裝載推進(jìn)器之間搬送所述目標(biāo)硅片;位置校正單元設(shè)置在設(shè)定搬送路徑上,用于校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置,以在所述輸出口與裝載推進(jìn)器之間搬送所述目標(biāo)硅片的過程中,使硅片搬送機(jī)械手夾緊所述目標(biāo)硅片防止跌落。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的搬送設(shè)備,其特征在于,所述位置校正單元設(shè)置在位于所述存儲(chǔ)架的搬送側(cè)邊上。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的搬送設(shè)備,其特征在于,在硅片搬送機(jī)械手將所述輸出口的所述目標(biāo)硅片加載到裝載推進(jìn)器上的過程中,通過位置異常的所述目標(biāo)硅片與所述位置校正單元的物理接觸,以校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的搬送設(shè)備,其特征在于,在硅片搬送機(jī)械手將裝載推進(jìn)器上的所述目標(biāo)硅片搬送到所述輸出口的過程中,通過位置異常的所述目標(biāo)硅片與所述位置校正單元的物理接觸,以校正所述目標(biāo)硅片在搬送機(jī)械手的位置。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





