[發明專利]供氣裝置的控制方法以及基板處理系統

有效

• 申請號: 201410123720.7
• 申請日: 2014-03-28
• 公開（公告）號: CN104073781B
• 公開（公告）日: 2018-11-23
• 發明（設計）人: 中島滋;島裕巳;立野雄亮
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C14/22;H01L21/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種供氣裝置的控制方法，該供氣裝置具備汽化器、載氣供給源以及供氣通路，該控制方法的特征在于，具有如下工序：

向上述汽化器的原料容器的內部供給液體或者固體的原料的工序；

在上述原料容器的內部使上述原料汽化來產生原料氣的工序；

對收容上述液體或者固體的原料的上述原料容器的內部進行排氣的工序；

從上述載氣供給源向上述原料容器的內部供給載氣的工序；以及

從上述原料容器經由上述供氣通路向對被處理基板實施處理的處理室通過上述載氣輸送上述原料氣的工序，

在針對上述被處理基板的處理結束之后、針對接著處理的被處理基板的處理開始之前執行上述原料容器的內部的排氣，

在上述原料容器的內部的壓力中存在上述原料汽化而產生的上述原料氣霧化的霧化壓力，

執行上述原料容器的內部的排氣使得在開始針對上述接著處理的被處理基板的處理時，在向上述原料容器的內部供給了上述載氣時上述原料容器的內部的壓力低于上述霧化壓力，

上述汽化器具備對收容在上述原料容器的內部的上述原料進行加熱的加熱裝置，

上述加熱裝置從針對上述被處理基板的處理結束起至針對接著處理的被處理基板的處理開始為止對收容在上述原料容器內的上述原料繼續加熱。

2.一種供氣裝置的控制方法，該供氣裝置具備汽化器、載氣供給源以及供氣通路，該控制方法的特征在于，具有如下工序：

向上述汽化器的原料容器的內部供給液體或者固體的原料的工序；

在上述原料容器的內部使上述原料汽化來產生原料氣的工序；

從上述載氣供給源向上述原料容器的內部供給載氣的工序；

從上述原料容器經由上述供氣通路向對被處理基板實施處理的處理室通過上述載氣重復供給上述原料氣、從而在該被處理基板上形成薄膜的工序；以及

每次將上述原料氣供給至上述處理室時對收容上述液體或者固體的原料的上述原料容器的內部進行排氣的工序，

執行上述原料容器的內部的排氣使得每次供給上述原料氣時從上述原料容器輸送的上述原料氣的氣體量在允許范圍內穩定，

對于上述原料氣的氣體量設有恢復下限值，該恢復下限值在上述原料氣通過上述載氣從上述原料容器的內部向上述供氣通路輸送之后至下一次將原料氣通過上述載氣從上述原料容器的內部向上述供氣通路輸送為止的期間上述原料氣的氣體量能夠恢復的值，

執行上述原料容器的內部的排氣使得上述原料氣的氣體量低于上述恢復下限值。

3.根據權利要求2所述的供氣裝置的控制方法，其特征在于，

當上述恢復下限值根據收容在上述原料容器的內部的上述原料的剩余量而變化時，

上述恢復下限值選擇與上述原料的剩余量接近空的使用界限值狀態相對應的值。

4.根據權利要求2所述的供氣裝置的控制方法，其特征在于，

重復上述原料氣的供給的重復次數是10次以下。