[發(fā)明專利]一種紫外成像儀深度截止帶外光譜雜光的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410120302.2 | 申請日： | 2014-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN104019892A | 公開（公告）日： | 2014-09-03 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王淑榮;黃煜;楊小虎 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號： | G01J3/02 | 分類號： | G01J3/02;G02B1/11;G02B1/10;G02B5/20 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人： | 張偉 |
| 地址： | 130033 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 紫外 成像 深度 截止 光譜 方法 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種紫外成像儀深度截止帶外光譜雜光的方法，其特征在于，包括以下步驟：
首先，將大氣輻射通過反射光學(xué)原件反射進(jìn)紫外成像儀內(nèi)部；
然后，經(jīng)過多個(gè)透射光學(xué)元件的透射；
再然后，經(jīng)過窄帶濾光片進(jìn)行過濾；
其中，每個(gè)所述透射光學(xué)元件上鍍有工作波段內(nèi)96%以上透射率，工作波段外反射率下降5～10倍的紫外增透膜；所述反射光學(xué)原件鍍有工作波段內(nèi)98%以上，工作波段外透射率下降5～10倍反射率的紫外高反膜；所述窄帶濾光片紫外工作波段外截止率至少為4OD。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述多個(gè)透射光學(xué)元件為7片透鏡。
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