[發明專利]一種基于CVD法合成的單根納米線熱導率的測量方法有效
| 申請號: | 201410119104.4 | 申請日: | 2014-03-27 |
| 公開(公告)號: | CN103913482A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | 潘安練;任品云;朱小莉 | 申請(專利權)人: | 湖南大學 |
| 主分類號: | G01N25/20 | 分類號: | G01N25/20 |
| 代理公司: | 長沙市融智專利事務所 43114 | 代理人: | 顏勇 |
| 地址: | 410082 湖*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 cvd 合成 納米 線熱導率 測量方法 | ||
1.一種基于CVD法合成的單根半導體納米線熱導率的測量方法,包括下述步驟:
步驟一
取一根采用CVD法于T1溫度下沉積得到的納米線,將所取納米線一端固定在碳導電膠上,另一端懸空,懸空部分長度為8-12微米;然后,用垂直于納米線軸線的聚焦激光束加熱懸空端的端部,然后增加聚焦激光束的凈輸出功率,至懸空端的端部熔融時,停止加熱,同時,記錄此時聚焦激光束的凈輸出功率p∞;所述聚焦激光束在過納米線軸線且與激光束垂直的平面上的“艾里斑”的直徑為D0,且“艾里斑”的圓心落在納米線上;
步驟二
利用掃描電鏡精確測量納米線懸空部分的長度L和直徑D;然后利用公式(1),計算得出實驗納米線的熱導率K,
公式(1)中,
L為納米線懸空部分的長度;D為納米線的直徑;p∞為納米線熔融時聚焦激光束的凈輸出功率,D0為“艾里斑”的直徑;
納米線對所用聚焦激光束的吸收率其中:l為光在納米線中的傳播距離,l的取值范圍為0-D;α是納米線對所用聚焦激光束的吸收系數;
γ為納米線對所用聚焦激光束的反射率;
聚焦激光束的功率面密度
聚焦激光束能量高斯分布的標準偏差
x為納米線上“艾里斑”內的某點到“艾里斑”圓心的距離,
以“艾里斑”圓心為直角坐標系的原點,θ為“艾里斑”中所取點到原點的連線與x軸組成的夾角;
ΔT=T1-T0,T1為納米線的沉積溫度,T0為室溫。
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