[發(fā)明專利]一種現(xiàn)場足跡的拍照方式有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410117440.5 | 申請日： | 2014-03-27 |
| 公開（公告）號： | CN103838059A | 公開（公告）日： | 2014-06-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 何曉光;李博;萬德鵬 | 申請（專利權(quán)）人： | 大連恒銳科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03B15/02 | 分類號： | G03B15/02 |
| 代理公司： | 北京元中知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11223 | 代理人： | 王明霞 |
| 地址： | 116023 遼寧省*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 現(xiàn)場 足跡 拍照 方式 | ||
1.一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：在掠射光與足跡承痕客體之間的入射角度足夠小的掠射光照明環(huán)境中定角度拍攝形成有足跡及足跡承痕客體的圖像，在漫反射光照明環(huán)境中定角度拍攝無足跡的足跡承痕客體的圖像，兩次拍攝形成可以進(jìn)行減層對比進(jìn)而獲得足跡圖像的兩幅圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：掠射光照明環(huán)境中，掠射光與足跡承痕客體之間的入射角度為0-10度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：形成掠射光的掠射光源位于足跡寬度方向兩側(cè)，掠射光源的長度方向與足跡的長度方向一致。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：掠射光掠射在目標(biāo)區(qū)域且足跡兩側(cè)的掠射光能夠相互補(bǔ)償使足跡的全部都能得到相應(yīng)的照明。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：形成掠射光的掠射光源采取條狀結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：形成掠射光的掠射光源采取準(zhǔn)直鏡或準(zhǔn)直鏡系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：漫反射光照明環(huán)境中，采取面光源形成漫反射光。
8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：作為發(fā)出漫反射光的面光源位于足跡寬度方向兩側(cè)，面光源的長度方向與足跡的長度方向一致。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種現(xiàn)場足跡的拍照方式，其特征在于：形成掠射光及漫反射光的光源均采用白光光源。
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