[發(fā)明專利]圖像濾波方法和裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410116964.2
• 申請(qǐng)日: 2014-03-26
• 公開（公告）號(hào): CN104952041A
• 公開（公告）日: 2015-09-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 冷永春;胡勝發(fā)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安凱（廣州）微電子技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06T5/00
• 分類號(hào): G06T5/00;G06T5/10
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種圖像濾波方法，其特征在于，包括：

將待處理圖像劃分為預(yù)設(shè)數(shù)量的濾波塊；

確定參考圖像中，與所述待處理圖像中的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊，其中，所述待處理濾波塊為所述待處理圖像中的任一濾波塊；

利用所述參考濾波塊，計(jì)算空域?yàn)V波后的所述待處理濾波塊的運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度，其中，所述運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度表示所述空域?yàn)V波后的待處理濾波塊與所述參考濾波塊的差異度；

當(dāng)所述運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度小于閾值時(shí)，利用所述參考濾波塊，對(duì)所述空域?yàn)V波后的待處理濾波塊進(jìn)行時(shí)域?yàn)V波。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定參考圖像中，與所述待處理圖像中的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊包括：

將所述待處理圖像中的每一濾波塊進(jìn)行空域?yàn)V波；

確定所述參考圖像中，與所述待處理圖像中進(jìn)行空域?yàn)V波后的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，利用所述參考濾波塊，計(jì)算空域?yàn)V波后的所述待處理濾波塊的運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度包括：

將所述待處理濾波塊進(jìn)行空域?yàn)V波；

利用所述參考濾波塊，計(jì)算空域?yàn)V波后的所述待處理濾波塊的運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述確定參考圖像中，與所述待處理圖像中的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊包括：

將待處理圖像中的待處理濾波塊進(jìn)行空域?yàn)V波；

確定參考圖像中，與進(jìn)行空域?yàn)V波后的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述待處理圖像與所述參考圖像為視頻圖像中的圖像幀，所述參考圖像為與所述待處理圖像的相鄰的一幀或兩幀圖像。

6.一種圖像濾波裝置，其特征在于，包括：

塊劃分模塊，用于將待處理圖像劃分為預(yù)設(shè)數(shù)量的濾波塊；

匹配模塊，用于確定參考圖像中，與所述待處理圖像中的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊，其中，所述待處理濾波塊為所述待處理圖像中的任一濾波塊；

強(qiáng)度計(jì)算模塊，用于利用所述參考濾波塊，計(jì)算空域?yàn)V波后的所述待處理濾波塊的運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度，其中，所述運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度表示所述空域?yàn)V波后的待處理濾波塊與所述參考濾波塊的差異度；

第一濾波模塊，用于當(dāng)所述運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度小于閾值時(shí)，利用所述參考濾波塊，對(duì)所述空域?yàn)V波后的待處理濾波塊進(jìn)行時(shí)域?yàn)V波。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述匹配模塊包括：

第二濾波模塊，用于將所述待處理圖像中的每一濾波塊進(jìn)行空域?yàn)V波；

第一匹配子模塊，用于確定所述參考圖像中，與所述待處理圖像中進(jìn)行空域?yàn)V波后的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述強(qiáng)度計(jì)算模塊包括：

第三濾波模塊，用于將所述待處理濾波塊進(jìn)行空域?yàn)V波；

強(qiáng)度計(jì)算子模塊，用于利用所述參考濾波塊，計(jì)算空域?yàn)V波后的所述待處理濾波塊的運(yùn)動(dòng)強(qiáng)度。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的裝置，其特征在于，所述匹配模塊包括：

第四濾波模塊，用于將待處理圖像中的待處理濾波塊進(jìn)行空域?yàn)V波；

第二匹配子模塊，用于確定參考圖像中，與進(jìn)行空域?yàn)V波后的待處理濾波塊匹配的參考濾波塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求6～9任一項(xiàng)所述的裝置，其特征在于，所述待處理圖像與所述參考圖像為視頻圖像中的圖像幀，所述參考圖像為與所述待處理圖像的相鄰的一幀或兩幀圖像。