[發明專利]一種低蝕刻的去除光阻蝕刻殘留物的清洗液

在審

• 申請號: 201410116569.4
• 申請日: 2014-03-26
• 公開（公告）號: CN104946429A
• 公開（公告）日: 2015-09-30
• 發明（設計）人: 何春陽;劉兵;孫廣勝;黃達輝
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）有限公司
• 主分類號: C11D7/32
• 分類號: C11D7/32;C11D7/26;C11D7/60;G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種低蝕刻的去除光阻蝕刻殘留物的清洗液，其特征在于，包含醇胺，醇醚，水，螯合劑以及肼及其衍生物。

2.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇胺的含量為質量百分比20-70%，所述的醇醚含量為質量百分比1-50%，所述的水含量為小于質量百分比40%，所述的螯合劑含量為質量百分比0.1-10%；所述的肼及其衍生物含量為質量百分比0.1-15%。

3.如權利要求2所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇胺的含量為質量百分比20-60%，所述的醇醚含量為質量百分比1-40%，所述的水含量為小于質量百分比1-35%，所述的螯合劑含量為質量百分比0.5-10%；所述的肼及其衍生物含量為質量百分比0.2-10%。

4.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇胺為單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一種或多種。

5.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的醇醚為二乙二醇單烷基醚和/或二丙二醇單烷基醚。

6.如權利要求5所述的清洗液，其特征在于，其中所述的二乙二醇單烷基醚為二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚和二乙二醇單丁醚；所述的二丙二醇單烷基醚為二丙二醇單甲醚、二丙二醇單乙醚和二丙二醇單丁醚。

7.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的螯合劑為鄰苯二酚、沒食子酸、對羥基苯甲酸、鄰苯三酚、5-甲氧基鄰苯三酚、5-叔丁基鄰苯三酚、5-羥甲基鄰苯三酚、乙二胺四乙酸、反-1,2-環已二胺四乙酸、乙二醇雙（2-氨基乙基）四乙酸、檸檬酸、琥珀酸、乳酸、酒石酸、沒食子酸甲酯、1-沒食子酸甘油酯中的一種或多種。

8.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，其中所述的肼及其衍生物較佳的為水合肼、苯甲酰肼、乙醇肼、碳酸肼、水楊酰肼、草酰二肼、丁二酸二酰肼、己二酸二酰肼、丙二酰肼、對肼基苯甲酸、乙酸肼中的一種或多種。

9.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的水為去離子水，蒸餾水，超純水的一種或多種。

10.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的清洗液不含有羥胺和氟化物。

11.一種如權利要求1-10任一項所述的清洗液在去除光阻殘留物的應用。