[發明專利]一種可化學自修復超疏水特性的具有微形貌材料的制備方法

無效

• 申請號: 201410114838.3
• 申請日: 2014-03-26
• 公開（公告）號: CN103881125A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 劉宇艷;呂通;謝志民;張恩爽;王永臻
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C08J7/04
• 分類號: C08J7/04;C08L63/00;C08K5/17
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種可化學自修復超疏水特性的具有微形貌材料的制備方法，其特征在于所述方法步驟如下：

一、模板的制備：

在金屬片表面電鍍一層多孔金屬作為材料微形貌的模板；

二、具有微形貌的環氧樹脂材料的制備：

配制環氧樹脂固化體系，并向其中加入增韌劑，然后將配制好的環氧樹脂體系以及模板放入金屬模具固化，固化后脫去氫氣泡模板，即得具有微形貌的環氧樹脂材料；

三、對具有微形貌的環氧樹脂進行表面化學組分的修飾：

使用氟化癸基聚倍半硅氧烷和氟化硅烷的乙醇溶液作為涂層，對步驟二制備的環氧樹脂材料表面進行浸泡處理，使材料表面修飾上化學自修復超疏水涂層，其中氟化癸基聚倍半硅氧烷和氟化硅烷的體積比為1∶3-6，浸泡時間為2-7小時。

2.根據權利要求1所述的可化學自修復超疏水特性的具有微形貌材料的制備方法，其特征在于步驟一中，所述金屬為Ni。

3.根據權利要求1所述的可化學自修復超疏水特性的具有微形貌材料的制備方法，其特征在于步驟一中，所述模板采用氫氣泡法、光刻法、感應耦合等離子體刻蝕法、電子束和氧等離子體干刻蝕法、AFM刻蝕法、氧化鋁模板法、化學氣相沉積法或軟刻蝕技術制備。

4.根據權利要求1所述的可化學自修復超疏水特性的具有微形貌材料的制備方法，其特征在于步驟二中，所述增韌劑與環氧樹脂的質量比為0.02-0.33∶1。

5.根據權利要求1或4所述的可化學自修復超疏水特性的具有微形貌材料的制備方法，其特征在于步驟二中，所述增韌劑為辛胺。