[發明專利]芯片背面涂覆錫膏的裝片方法有效
| 申請號: | 201410113333.5 | 申請日: | 2014-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN103839839A | 公開(公告)日: | 2014-06-04 |
| 發明(設計)人: | 孟浪;徐青青;郭玉兵 | 申請(專利權)人: | 常州銀河世紀微電子有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/50 | 分類號: | H01L21/50 |
| 代理公司: | 常州市天龍專利事務所有限公司 32105 | 代理人: | 夏海初 |
| 地址: | 213022 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 芯片 背面 涂覆錫膏 方法 | ||
1.一種芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,以具有充氮閥、裝有真空閥的抽真空泵和內循環風機的烘箱為工藝裝備,以芯片和芯片框架為出發工件,其特征在于:所述裝片的步驟依次是:
步驟a、將芯片背面涂覆錫膏并與芯片框架組裝后送至烘箱內,打開真空閥進行抽真空,而充氮閥關閉,待烘箱的內壓在0.05~0.15Pa范圍內時,再打開充氮閥注入氮氣,令烘箱的內壓維持在0.5~0.6Pa范圍內,并開啟內循環風機;
步驟b、對烘箱內進行升溫對工件進行烘烤,而烘烤溫度在150~220℃范圍內,此時,錫膏所含的溶劑和助焊劑氣化,并隨著氮氣被抽真空泵抽離;
步驟c、在所述工件經步驟b將錫膏的溶劑和助焊劑氣化并被抽離情況下,將烘箱內的溫度持續進行升溫對工件進行烘烤,待烘烤溫度提高至250~300℃范圍內時,所述錫膏所含的錫球顆粒被熔化;
步驟d、在所述工件經步驟c將錫膏的錫球顆粒被熔化情況下,停止加熱并關閉烘箱的充氮閥和內循環風機,且繼續抽真空,待烘箱的內壓在0.05~0.15Pa范圍內時,再次打開充氮閥和內循環風機,令烘箱的內壓保持在0.5~0.6Pa范圍內;
步驟e、在所述工件經步驟d后,將烘箱內的溫度進行降溫,待烘箱內的溫度在15~25℃范圍內時,關閉真空閥,使得烘箱內的內壓降為1個標準大氣壓,爾后關閉充氮閥和內循環風機,則完成芯片背面與芯片框架焊接的裝片工作。
2.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:所述烘箱充入的氮氣內含有氮氣總重量1.5~3.5%的氫氣。
3.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:實施步驟b的時間控制在30~45分鐘范圍內。
4.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:實施步驟c的時間控制在15~20分鐘范圍內。
5.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:實施步驟d的時間控制在10~15分鐘范圍內。
6.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:實施步驟e的時間控制在25~30分鐘范圍內。
7.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:步驟b和步驟c所述烘箱內的溫度升溫是定點曲線逐漸遞增式升溫,且由自動控制器自動控制。
8.根據權利要求1所述的芯片背面涂覆錫膏的裝片方法,其特征在于:與抽真空泵裝連的真空閥是比例控制閥。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





