[發(fā)明專利]觸控屏及其制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410112543.2
• 申請日: 2014-03-25
• 公開（公告）號: CN104951112A
• 公開（公告）日: 2015-09-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 禹慶槿;楊志方;林瑞鴻
• 申請（專利權(quán)）人: 富元精密鍍膜股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京北翔知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11285
• 代理人: 鄭建暉;楊勇

1.一種觸控屏，其特征在于，所述觸控屏包含：

基板，包含顯示區(qū)域及環(huán)繞該顯示區(qū)域的邊框區(qū)域；

彩色鍍膜層，對應(yīng)于該邊框區(qū)域而設(shè)置在該基板上，且具有第一厚度；以及

反射層，對應(yīng)于該彩色鍍膜層而設(shè)置在該彩色鍍膜層上，其中該反射層具有第二厚度，使該彩色鍍膜層經(jīng)光線反射后展現(xiàn)至少一色彩。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控屏，其特征在于，該彩色鍍膜層為氮化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化鋯、氮化鈦、或氮化鎢制成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控屏，其特征在于，該反射層以鏡面材料制成。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的觸控屏，其特征在于，該鏡面材料為鋁、銀、鋁銀合金、或溴化銀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觸控屏，其特征在于，該第二厚度為30至200nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的觸控屏，其特征在于，該彩色鍍膜層以氮化鈦制成，且該第一厚度為30至40nm、80至100nm、110至130nm、或150至170nm時(shí)，該色彩分別為金黃色、藍(lán)色、黃綠色、或紫色。

7.一種觸控屏的制造方法，其特征在于，前述制造方法包含：

提供基板，該基板包含顯示區(qū)域及環(huán)繞該顯示區(qū)域的邊框區(qū)域；

在該基板上對應(yīng)于該邊框區(qū)域形成彩色鍍膜層，該彩色鍍膜層具有第一厚度；以及

在該彩色鍍膜層上對應(yīng)于該彩色鍍膜層形成反射層，其中該反射層具有第二厚度，使該彩色鍍膜層經(jīng)光線折射后展現(xiàn)至少一色彩。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，形成該彩色鍍膜層的步驟包含：將光阻材料涂布在該基板上并對該光阻材料進(jìn)行曝光顯影以定義該邊框區(qū)域；接著以真空濺鍍法在該基板上濺鍍真空濺鍍材料；隨后對所濺鍍的該真空濺鍍材料進(jìn)行光阻去膜工藝以獲得對應(yīng)于該邊框區(qū)域的該彩色鍍膜層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，在進(jìn)行光阻去膜工藝之前包含在所濺鍍的該真空濺鍍材料上以真空濺鍍法濺鍍高反射率材料，以在進(jìn)行光阻去膜工藝之后獲得對應(yīng)于該邊框區(qū)域的該反射層。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，該真空濺鍍材料包含鈦、鋁、鉻、鋯、或鎢。

11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，該彩色鍍膜層為氮化鈦、氮化鋁、氮化鉻、氮化鋯、或氮化鎢制成。

12.根據(jù)權(quán)利要求7項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，該反射層為鏡面材料制成。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的制造方法，其特征在于，該鏡面材料為鋁、銀、鋁銀合金、或溴化銀。

14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制造方法，其特征在于，在形成該反射層的步驟中，該第二厚度為30至200nm。

15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造方法，其特征在于，在形成該彩色鍍膜層的步驟中，該彩色鍍膜層以氮化鈦制成，且該第一厚度為30至40nm、80至100nm、110至130nm、或150至170nm時(shí)，該色彩分別為金黃色、藍(lán)色、黃綠色、或紫色。