[發明專利]掩膜版、掩膜圖案生成控制系統及方法、掩膜系統

有效

• 申請號: 201410112466.0
• 申請日: 2014-03-24
• 公開（公告）號: CN103913957A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發明（設計）人: 沈奇雨
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/76
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 黃燦;安利霞

1.一種掩膜版，包括一能夠透過曝光激勵的本體，其特征在于，所述本體內形成有一圖案形成腔，所述圖案形成腔的底部為一水平面，所述本體上還設置有一用于容納能夠阻擋曝光激勵透過的粉狀物質的容納腔，所述容納腔與所述圖案形成腔連通，使得所述粉狀物質能夠在一圖案生成激勵的作用下，進入所述圖案形成腔，并在所述水平面上生成與待形成的電路圖案相對應的掩膜圖案。

2.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述曝光激勵為紫外線，所述粉狀物質為磁粉，所述圖案生成激勵為磁場。

3.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述本體上還形成有一從外部通向所述容納腔的通道，所述掩膜版還包括：

開口控制單元，用于打開或關閉所述通道。

4.一種掩膜圖案生成控制系統，用于作用于一掩膜版以生成掩膜圖案，其特征在于，所述掩膜版具有一水平面，所述掩膜圖案生成控制系統包括：

激勵生成裝置，用于生成一作用于能夠阻擋曝光激勵透過的粉狀物質的圖案生成激勵，使得所述粉狀物質能夠在所述水平面上生成與待形成的電路圖案相對應的掩膜圖案。

5.根據權利要求4所述的掩膜圖案生成控制系統，其特征在于，所述掩膜版包括一能夠透過曝光激勵的本體，所述本體內形成有一圖案形成腔，所述水平面為所述圖案形成腔的底部，所述本體上還設置有一用于容納所述粉狀物質的容納腔，所述容納腔與所述圖案形成腔連通。

6.根據權利要求5所述的掩膜圖案生成控制系統，其特征在于，所述激勵源生成裝置具體包括：

獲取模塊，用于獲取所述電路圖案；

轉換模塊，用于將所述電路圖案轉換為所述掩膜圖案；

第一激勵生成模塊，用于根據所述掩膜圖案，生成作用于所述圖案形成腔中的粉狀物質的圖案生成激勵，使得進入所述圖案形成腔的所述粉狀物質能夠在所述水平面上生成與待形成的電路圖案相對應的掩膜圖案。

7.根據權利要求6所述的掩膜圖案生成控制系統，其特征在于，所述掩膜圖案生成控制系統還包括：

第二激勵生成模塊，用于生成作用于所述容納腔的粉狀物質，使得所述容納腔的粉狀物質進入所述圖案形成腔的位置控制激勵。

8.根據權利要求6所述的掩膜圖案生成控制系統，其特征在于，還包括：

第三激勵生成模塊，用于生成作用于形成所述掩膜圖案的粉狀物質的還原激勵，破壞所述粉狀物質之間的結合力，使得所述粉狀物質散布于所述水平面。

9.根據權利要求6所述的掩膜圖案生成控制系統，其特征在于，還包括：

第四激勵生成模塊，用于生成作用于所述圖案形成腔中的粉狀物質，使得所述圖案形成腔中的粉狀物質進入所述容納腔的復位激勵。

10.根據權利要求5所述的掩膜版，其特征在于，所述本體上還形成有一從外部通向所述容納腔的通道，所述掩膜版還包括：

開口控制單元，用于打開或關閉所述通道。

11.根據權利要求4-10中任意一項所述的掩膜圖案生成控制系統，其特征在于，所述曝光激勵為紫外線，所述圖案生成激勵為磁場，所述粉狀物質為磁粉。

12.一種掩膜圖案生成控制方法，用于作用于一掩膜版以生成掩膜圖案，其特征在于，所述掩膜版具有一水平面，所述掩膜圖案生成控制系統包括：

激勵生成步驟，生成一作用于能夠阻擋曝光激勵透過的粉狀物質的圖案生成激勵，使得所述粉狀物質能夠在所述水平面上生成與待形成的電路圖案相對應的掩膜圖案。

13.根據權利要求12所述的掩膜圖案生成控制方法，其特征在于，所述掩膜版包括一能夠透過曝光激勵的本體，所述本體內形成有一圖案形成腔，所述水平面為所述圖案形成腔的底部，所述本體上還設置有一用于容納所述粉狀物質的容納腔，所述容納腔與所述圖案形成腔連通。

14.根據權利要求13所述的掩膜圖案生成控制方法，其特征在于，所述激勵生成步驟具體包括：

獲取所述電路圖案；

將所述電路圖案轉換為所述掩膜圖案；

根據所述掩膜圖案，生成作用于所述圖案形成腔中的粉狀物質的圖案生成激勵，使得進入所述圖案形成腔的所述粉狀物質能夠在所述水平面上生成與待形成的電路圖案相對應的掩膜圖案。

15.一種掩膜系統，包括一掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括一能夠透過曝光激勵的本體，所述本體內形成有一圖案形成腔，所述圖案形成腔的底部為一水平面，所述本體上還設置有一用于容納能夠阻擋曝光激勵透過的粉狀物質的容納腔，所述容納腔與所述圖案形成腔連通，所述掩膜系統還包括：

激勵生成裝置，用于生成一作用于所述粉狀物質的圖案生成激勵，使得所述粉狀物質能夠在所述水平面上生成與待形成的電路圖案相對應的掩膜圖案。