[發明專利]多層導電涂層厚度的渦流檢測方法和裝置有效
| 申請號: | 201410110935.5 | 申請日: | 2014-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN103852000A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發明(設計)人: | 于亞婷;王飛;來超;張德俊;危荃 | 申請(專利權)人: | 電子科技大學;上海航天精密機械研究所 |
| 主分類號: | G01B7/06 | 分類號: | G01B7/06 |
| 代理公司: | 成都宏順專利代理事務所(普通合伙) 51227 | 代理人: | 周永宏 |
| 地址: | 611731 四川省成*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多層 導電 涂層 厚度 渦流 檢測 方法 裝置 | ||
1.一種多層導電涂層厚度的渦流檢測方法;其特征在于:包括如下步驟:
第一步、測出兩層導電涂層的被測件的檢測信號增幅;
第二步、改變上下涂層厚度,測出隨厚度變化后的檢測信號增幅;
第三步、根據檢測信號增幅,擬合出上下層磁場強度與厚度變化的直線關系,確定上層直線的斜率和截距與底層厚度的關系,用兩組數據代入實測點的數值便可求解出底層厚度和總厚度的值;
第四步、改變激勵信號的頻率,再次對被測對象進行檢測,再擬合出上下層磁場強度與厚度變化的直線關系,確定上層直線的斜率和截距與底層厚度的關系,確定另一組參數,與第三步的數據求解,得出底層厚度和上層厚度的值。
2.如權利要求1所述的多層導電涂層厚度的渦流檢測方法;其特征在于:所述第三步和第四步的運算過程如下:
設下層磁場變化與厚度的關系如下式
B=kd1+b????(1)
上層厚度變化曲線的斜率與下層厚度的關系如下式
kx=k1d1+b1????(2)
上層直線的截距與下層厚度的關系如下式
b0=k2d1+b2????(3)
直線關系如下式
B0=kxd0+b0????(4)
將式(1)、式(2)和式(3)代入式(4)可得
B0=(k1d1+b1)d0+k2d1+b2????(5)
將式(5)轉換最終可得
k1d1d0+b1d0+k2d1+b2-B0=0????(6)
其中d0為雙涂層的總厚度,d1為底層厚度,k1、k2、b1、b2為實驗獲得的被測值,B0為檢測值。
3.如權利要求1所述的多層導電涂層厚度的渦流檢測方法;其特征在于:所述第一步和第二步的檢測過程如下:
步驟1、通過信號發生模塊產生多個頻率的正弦激勵信號,并將其輸入渦流探頭的激勵線圈;
步驟2、將渦流探頭固定在兩層導電涂層的被測件上,正弦多頻激勵信號輸入檢測裝置的激勵線圈后,在被測對象和渦流探頭線圈之間的空間形成一個耦合的電磁場,探測所在位置的磁感應強度信號,將探測到磁感應強度信號轉化成相對應的電壓信號;
步驟3、通過響應信號放大濾波模塊對步驟2所得的電壓信號進行放大濾波處理,濾出電壓信號中的雜波電壓信號并對信號進行放大;
步驟4、將步驟3放大濾波后的電壓信號輸入到帶通濾波器中,提取出和各個激勵信號頻率一致的電壓信號;
步驟5、將步驟4提取出的正弦電壓信號通過信號的采集模塊,提取出該正弦電壓信號的幅值,作為檢測信號增幅。
4.一種多層導電涂層厚度的渦流檢測裝置,其特征在于:包括多頻正弦激勵信號發生模塊、探頭、霍爾傳感器、濾波放大模塊、多頻信號分離模塊、信號采集模塊、運算模塊和顯示模塊;多頻正弦激勵信號發生模塊與探頭相連,霍爾傳感器附著在探頭上,霍爾傳感器、濾波放大模塊、多頻信號分離模塊、信號采集模塊、運算模塊和顯示模塊依次相連。
5.如權利要求4所述的多層導電涂層厚度的渦流檢測裝置,其特征在于:所述多頻正弦激勵信號發生模塊由至少一片ICL8038震蕩集成電路和一片AD817運算放大器組成。
6.如權利要求4所述的多層導電涂層厚度的渦流檢測裝置;其特征在于:所述濾波放大模塊為以OP07運算放大器為核心的放大濾波電路。
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