[發明專利]對準圖形及晶圓有效
| 申請號： | 201410110062.8 | 申請日： | 2014-03-24 |
| 公開（公告）號： | CN103872022A | 公開（公告）日： | 2014-06-18 |
| 發明（設計）人： | 吳佳宏 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | H01L23/544 | 分類號： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上海市*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 對準 圖形 | ||
1.一種對準圖形，其特征在于，用于在測量機臺上對準晶圓，所述晶圓包括多個陣列的投影曝光區域，相鄰的所述投影曝光區域通過切割道相隔離，所述對準圖形位于所述投影曝光區域邊側的所述切割道內。
2.如權利要求1所述的對準圖形，其特征在于，所述對準圖形至少包括一條第一向線和一第二向線，所述第一向線在第一方向延伸，所述第二向線在第二方向延伸，所述第一方向和第二方向相垂直。
3.如權利要求2所述的對準圖形，其特征在于，所述第一向線和第二向線單獨排列，互不交叉。
4.如權利要求2所述的對準圖形，其特征在于，多個所述第一向線組成一排列組，所述對準圖形包括至少一組所述排列組。
5.如權利要求4所述的對準圖形，其特征在于，每個排列組包括2-5個所述第一向線。
6.如權利要求4所述的對準圖形，其特征在于，所述對準圖形包括兩條以上所述第二向線，每相鄰兩條的所述第二向線之間排列至少一組所述排列組。
7.如權利要求6所述的對準圖形，其特征在于，每相鄰兩條的所述第二向線之間排列2-4組所述排列組。
8.如權利要求2所述的對準圖形，其特征在于，所述對準圖形還包括一對準框，所述第一向線和第二向線位于所述對準框的范圍內。
9.如權利要求2所述的對準圖形，其特征在于，所述對準框與所述第一向線和第二向線位于相鄰的膜層。
10.如權利要求2所述的對準圖形，其特征在于，所述第一方向為所述晶圓的縱向，所述第二方向為所述晶圓的橫向；或，所述第一方向為所述晶圓的橫向，所述第二方向為所述晶圓的縱向。
11.如權利要求1所述的對準圖形，其特征在于，所述對準圖形為方形，所述對準圖形的邊長為40μm～250μm。
12.一種晶圓，其特征在于，包括如權利要求1-11中任意一項所述的對準圖形。
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