[發(fā)明專(zhuān)利]一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410107547.1 | 申請(qǐng)日： | 2014-03-22 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN103824693A | 公開(kāi)（公告）日： | 2014-05-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 孫寶玉;陳曉東 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 沈陽(yáng)中北通磁科技股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào)： | H01F41/02 | 分類(lèi)號(hào)： | H01F41/02;C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 暫無(wú)信息 | 代理人： | 暫無(wú)信息 |
| 地址： | 110168 遼*** | 國(guó)省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 帶有 復(fù)合 鍍膜 釹鐵硼 稀土 永磁 器件 制造 方法 | ||
1.一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：首先進(jìn)行合金熔煉，在熔融狀態(tài)下將合金澆鑄到帶水冷卻的旋轉(zhuǎn)銅輥上冷卻形成合金片,接著進(jìn)行氫破碎，氫破碎后進(jìn)行混料，混料后進(jìn)行氣流磨，之后在氮?dú)獗Ｗo(hù)下用混料機(jī)混料后送到氮?dú)獗Ｗo(hù)磁場(chǎng)取向壓機(jī)成型，成形后在保護(hù)箱內(nèi)封裝，然后取出進(jìn)行等靜壓，之后送入燒結(jié)設(shè)備燒結(jié)和時(shí)效制成釹鐵硼稀土永磁磁體，之后進(jìn)行機(jī)械加工制成釹鐵硼稀土永磁器件，之后在真空鍍膜室內(nèi)對(duì)釹鐵硼稀土永磁器件進(jìn)行磁控濺射鍍膜和多弧離子鍍的復(fù)合鍍膜，鍍膜共分3層，第一層為磁控濺射鍍層，鍍層厚度為：0.02-5μm，第二層為磁控濺射和多弧離子鍍的復(fù)合鍍層，鍍層厚度為：1-10μm，第三層為磁控濺射鍍層，鍍層厚度為：?0.1-5μm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有加熱器，加熱溫度范圍在30-600℃。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的復(fù)合鍍膜工序后還有熱處理工序，熱處理溫度60-900℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的真空鍍膜室內(nèi)設(shè)置有陽(yáng)極層線(xiàn)性離子源，所述的復(fù)合鍍膜條件為，溫度30~600℃，沉積壓強(qiáng)為氬氣條件下0.1~1Pa,功率密度為1~20w/cm2，線(xiàn)性離子源的放電電壓100~3000V，離子能量100~2000eV,氬氣條件下工作氣壓0.01~1Pa，所述的復(fù)合鍍膜工序中采用磁控濺射鍍膜和多弧離子鍍膜單獨(dú)、交替或同時(shí)進(jìn)行工作。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的復(fù)合鍍膜過(guò)程中還充入氬氣和氧氣，氧氣/氬氣的體積百分?jǐn)?shù)在0.1-5%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的復(fù)合鍍膜屬于物理氣相沉積，磁控鍍膜材料為Al、Dy-Al、Tb-Al、Dy-Fe、Tb-Fe、Ti、Mo、Si、不銹鋼、Al2O3、ZrO、AZO中的一種,?所述的磁控濺射和多弧離子鍍的復(fù)合鍍層，鍍膜材料為Al、Ti、Mo、Si、不銹鋼、Al2O3、ZrO、ITO、AZO中的一種以上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的復(fù)合鍍膜工序前還有噴砂工序，噴砂采用的材料是石英、玻璃微珠、氧化鋁、氧化鈰、氧化鑭、氧化鈰和氧化鑭的混合物、氧化鋯的一種以上，鍍膜工序前或者還有噴涂工序，噴涂材料為鋁或含鋁的化合物、電泳漆中的一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的復(fù)合鍍膜工序，鍍膜共分3層，第一層為磁控濺射鍍層，鍍層為Al、Dy-Al、Tb-Al、Dy-Fe、Tb-Fe中的一種，第二層為磁控濺射和多弧離子鍍的復(fù)合鍍層，鍍層為Al、Ni-Cr、Ti、Mo、Si、Al2O3、ZrO2、AZO中的一種以上，第三層為磁控濺射鍍層，鍍層為Al、Ni-Cr、Ti、Mo、Si、Al2O3、ZrO2、AZO中的一種以上。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種帶有復(fù)合鍍膜的釹鐵硼稀土永磁器件的制造方法，其特征在于：所述的復(fù)合鍍膜工序，鍍膜共分3層，第一層為磁控濺射鍍層，鍍層為Dy-Al、Tb-Al中的一種，第二層為磁控濺射和多弧離子鍍的混合鍍層，鍍層為Al、Ni-Cr中的一種以上，第三層為磁控濺射鍍層，鍍層為Al。
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