[發(fā)明專利]一種除霧清洗劑

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410106906.1
• 申請日: 2014-03-20
• 公開（公告）號: CN103834501A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發(fā)明（設計）人: 鄧劍明
• 申請（專利權）人: 東莞市劍鑫電子材料有限公司
• 主分類號: C11D7/60
• 分類號: C11D7/60;C11D7/50;C11D7/26;C09K3/18
• 代理公司: 東莞市華南專利商標事務所有限公司 44215
• 代理人: 李玉平

1.一種除霧清洗劑，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????25-35%

新己烷??????????????15-25%

六甲基二硅氧烷??????45-60%。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????25-30%

新己烷??????????????15-20%

六甲基二硅氧烷??????50-60%。

3.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于，包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????30-35%

新己烷??????????????20-25%

六甲基二硅氧烷??????45-50%。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于：包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????28-33%

新己烷??????????????16-22%

六甲基二硅氧烷??????48-55%。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于：包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????28%

新己烷??????????????22%

六甲基二硅氧烷??????50%。

6.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于：包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????30%

新己烷??????????????20%

六甲基二硅氧烷??????50%。

7.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于：包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????33%

新己烷??????????????15%

六甲基二硅氧烷??????52%。

8.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于：包括以下重量百分比的原料：

異己烷??????????????35%

新己烷??????????????20%

六甲基二硅氧烷??????45%。

9.根據(jù)權利要求1所述的一種除霧清洗劑，其特征在于：所述除霧清洗劑的pH為7。