[發(fā)明專利]一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410106660.8 | 申請日： | 2014-03-20 |
| 公開（公告）號： | CN103878687B | 公開（公告）日： | 2017-01-04 |
| 發(fā)明（設計）人： | 丁弋;朱也方;嚴鈞華 | 申請（專利權）人： | 上海華力微電子有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/34 | 分類號： | B24B37/34 |
| 代理公司： | 上海申新律師事務所31272 | 代理人： | 吳俊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 防止 研磨 墊刮傷晶圓 系統(tǒng) | ||
1.一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)包括：
一清理盤，其表面設置有凸出的若干鉆石，且每個所述鉆石暴露的表面均包裹有一層磁性材料；
一研磨墊，其表面與所述清理盤的表面相對設置；
一磁性感應器，設置于所述研磨墊的下方，以對所述研磨墊表面的磁性情況進行檢測；
其中，在對一晶圓進行化學機械研磨過程中，所述清理盤對所述研磨墊進行清理，若所述清理盤上的磁性材料脫落至所述研磨墊上時，被所述磁性感應器感應，所述研磨墊停止研磨。
2.如權利要求1所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述清理盤與所述研磨墊旋轉方向相反。
3.如權利要求2所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述清理盤自身旋轉的同時，相對于所述研磨墊左右來回運動。
4.如權利要求3所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述清理盤運動的范圍大于所述晶圓的直徑。
5.如權利要求3所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述清理盤運動的范圍不超過所述研磨墊的半徑。
6.如權利要求1所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述鉆石暴露的部分主視圖為三角形。
7.如權利要求1所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述系統(tǒng)還包括一報警裝置，當所述磁性感應器感應到所述研磨墊表面具有磁性物質時，所述報警裝置發(fā)出報警。
8.如權利要求1所述的一種防止研磨墊刮傷晶圓的系統(tǒng)，其特征在于，所述晶圓和所述清理盤位于所述研磨墊的中間線的兩側。
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