[發(fā)明專利]半色調(diào)掩膜版、陣列基板及其制作方法、顯示裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410104455.8
• 申請日: 2014-03-20
• 公開（公告）號: CN103913944A
• 公開（公告）日: 2014-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李田生;謝振宇
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G03F1/32
• 分類號: G03F1/32;G03F1/54;G03F7/00;H01L21/77;H01L27/12
• 代理公司: 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291
• 代理人: 黃志華

1.一種半色調(diào)掩膜版，用于陣列基板包含的有源層圖案、以及位于所述有源層圖案上方的源極圖案、漏極圖案和數(shù)據(jù)線圖案的制作，其中：所述陣列基板的表面包含所述源極圖案、漏極圖案和數(shù)據(jù)線圖案對應(yīng)的A區(qū)域，所述有源層圖案在所述源極圖案和漏極圖案之間的區(qū)域?qū)?yīng)的B區(qū)域，以及除所述A區(qū)域和B區(qū)域以外的C區(qū)域，其特征在于，

所述半色調(diào)掩膜版的半透光區(qū)域?qū)?yīng)所述C區(qū)域中的部分區(qū)域和所述B區(qū)域。

2.如權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩膜版，其特征在于，所述半色調(diào)掩膜版的半透光區(qū)域?qū)?yīng)所述C區(qū)域中像素顯示區(qū)域以外的部分或全部區(qū)域。

3.如權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩膜版，其特征在于，所述半色調(diào)掩膜版的半透光區(qū)域?qū)?yīng)所述C區(qū)域中與所述B區(qū)域具有間隙的部分或全部區(qū)域。

4.如權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩膜版，其特征在于，所述半色調(diào)掩膜版的完全不透光區(qū)域?qū)?yīng)所述A區(qū)域，且

所述半色調(diào)掩膜版的半透光區(qū)域?qū)?yīng)所述C區(qū)域中與所述A區(qū)域無間隙的部分或全部區(qū)域。

5.如權(quán)利要求1～4任一所述的半色調(diào)掩膜版，其特征在于，所述半色調(diào)掩膜版的半透光區(qū)域?qū)?yīng)所述C區(qū)域中位于所述數(shù)據(jù)線圖案兩側(cè)、且與所述數(shù)據(jù)線圖案之間無間隙的區(qū)域。

6.如權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩膜版，其特征在于，所述C區(qū)域中每個(gè)與所述半色調(diào)掩膜版的半透光區(qū)域?qū)?yīng)的獨(dú)立區(qū)域在與所述數(shù)據(jù)線圖案垂直的方向上的尺寸值的取值范圍為：0.5微米～1微米。

7.一種采用如權(quán)利要求1所述的半色調(diào)掩膜版制作陣列基板的方法，其特征在于，該方法包括：

采用所述半色調(diào)掩膜版，通過一次掩模構(gòu)圖工藝，形成陣列基板的有源層圖案、以及位于所述有源層圖案上方的源極圖案、漏極圖案和數(shù)據(jù)線圖案。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，形成所述有源層圖案、以及位于所述有源層圖案上方的源極圖案、漏極圖案和數(shù)據(jù)線圖案，具體包括：

依次沉積半導(dǎo)體層和金屬層；

在所述金屬層上涂布光刻膠；

利用所述半透式掩膜板對所述光刻膠進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠半保留區(qū)域和光刻膠完全去除區(qū)域；其中，所述光刻膠完全保留區(qū)域?qū)?yīng)所述A區(qū)域，所述光刻膠半保留區(qū)域?qū)?yīng)C區(qū)域中的部分區(qū)域和所述B區(qū)域；

利用刻蝕工藝去除掉所述光刻膠完全去除區(qū)域的半導(dǎo)體層和金屬層；

利用等離子體灰化工藝去除掉所述光刻膠半保留區(qū)域的光刻膠；

利用刻蝕工藝去除掉所述光刻膠半保留區(qū)域的金屬層；

剝離掉所述光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠。

9.一種陣列基板，所述陣列基板的表面包含源極圖案、漏極圖案和數(shù)據(jù)線圖案對應(yīng)的A區(qū)域，有源層圖案在所述源極圖案和漏極圖案之間的區(qū)域?qū)?yīng)的B區(qū)域，以及除所述A區(qū)域和B區(qū)域以外的C區(qū)域，其特征在于，包括：

位于所述C區(qū)域中的部分區(qū)域、所述A區(qū)域和所述B區(qū)域?qū)?yīng)位置的有源層圖案，以及，

位于所述A區(qū)域?qū)?yīng)的有源層圖案上方的源極圖案、漏極圖案和數(shù)據(jù)線圖案。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求9所述的陣列基板。