[發明專利]一種氰根電位滴定分析方法有效
| 申請號： | 201410103381.6 | 申請日： | 2014-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN103852509A | 公開（公告）日： | 2014-06-11 |
| 發明（設計）人： | 徐寧;李傳偉;趙建軍;方文;趙海利 | 申請（專利權）人： | 北京礦冶研究總院 |
| 主分類號： | G01N27/42 | 分類號： | G01N27/42 |
| 代理公司： | 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260 | 代理人： | 鄭立明;趙鎮勇 |
| 地址： | 100160 北京市豐臺區*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 電位 滴定 分析 方法 | ||
1.一種氰根電位滴定分析方法，其特征在于，包括：
將礦漿過濾成澄清溶液；
向所述澄清溶液中加入反應劑去除所述澄清溶液中的硫離子；
向去除硫離子后的溶液中加入pH緩沖試劑，得到弱堿性溶液；
將滴定劑定量滴定入所述弱堿性溶液，同時檢測所述弱堿性溶液中設置的復合銀環電極的電位；
根據滴定劑消耗的體積以及對應的復合銀環電極的電位值，計算出氰根濃度。
2.根據權利要求1所述的氰根電位滴定分析方法，其特征在于，所述將礦漿過濾成澄清溶液，包括：
使用定性濾紙或濾芯將礦漿過濾成濁度<10NTU的澄清溶液。
3.根據權利要求2所述的氰根電位滴定分析方法，其特征在于，所述向所述澄清溶液中加入反應劑去除所述澄清溶液中的硫離子，包括：
向所述澄清溶液中加入反應劑，直到不再產生沉淀，將沉淀過濾掉，得到去除硫離子的溶液，其中，所述反應劑為醋酸鉛溶液。
4.根據權利要求3所述的氰根電位滴定分析方法，其特征在于，所述向去除硫離子后的溶液中加入pH緩沖試劑，得到弱堿性溶液，包括：
取定量的去除硫離子后的溶液；
向定量的去除硫離子后的溶液中加入pH緩沖試劑，得到pH值為9±1的弱堿性溶液，其中，所述pH緩沖試劑為四硼酸鈉溶液。
5.根據權利要求4所述的氰根電位滴定分析方法，其特征在于，所述醋酸鉛溶液為0.1mol/L，所述四硼酸鈉緩沖溶液為0.01mol/L，所述定量的向去除硫離子后的溶液為2～10ml。
6.根據權利要求5所述的氰根電位滴定分析方法，其特征在于，所述將滴定劑定量滴定入所述弱堿性溶液，同時檢測所述弱堿性溶液中設置的復合銀環電極的電位，包括：
將0.05mol/L的滴定劑定量滴定入所述弱堿性溶液，在滴定過程中記錄滴定劑消耗的體積及復合銀環電極對應的電位值，其中，所述滴定劑為AgNO3溶液。
7.根據權利要求6所述的氰根電位滴定分析方法，其特征在于，所述根據滴定劑消耗的體積以及對應的復合銀環電極的電位值，計算出氰根濃度，包括：
采用二級微分法計算滴定等當點，當復合銀環電極的電位值達到等當點時，根據此時所消耗的滴定劑體積計算氰根的濃度。
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