[發明專利]一種提高分立式微變形鏡填充因子的方法

有效

• 申請號: 201410103225.X
• 申請日: 2014-03-19
• 公開（公告）號: CN103837981A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 汪為民;周崇喜;李國俊;王強;邱傳凱;岳衢
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: G02B26/08
• 分類號: G02B26/08;G02B26/06
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司 11251
• 代理人: 成金玉;顧煒

1.一種提高分立式微變形鏡填充因子的方法，其特征在于：包括一個微縮束鏡陣列（1）和一個分立式微變形鏡（2），微縮束鏡陣列（1）和分立式微變形鏡（2）具有相同的單元間距，入射光經過微縮束鏡陣列（1）之后被分割并縮束，形成一個光斑陣列，陣列中單個光斑的口徑與微縮束鏡陣列（1）單個單元口徑的比值即微縮束鏡陣列（1）的縮束比；該光斑陣列再入射到分立式微變形鏡（2）表面，陣列中每個光斑均投射到分立式微變形鏡（2）的相應單元，分立式微變形鏡的各單元根據入射光像差進行相應的校正變形，使光斑陣列反射回去重新通過微縮束鏡陣列（1）從而擴束合成，實現了像差校正；入射光由于被微縮束鏡陣列（1）縮束而可匹配于分立式微變形鏡（2）的單元口徑，整個系統的填充因子從分立式微變形鏡（2）的填充因子提高到了微縮束鏡陣列（1）的填充因子。

2.根據權利要求1所述的一種提高分立式微變形鏡填充因子的方法，其特征在于：所述的微縮束鏡陣列（1），是由兩個焦點重合的第一微透鏡陣列（3）和第二微透鏡陣列（4）組成，且第一微透鏡陣列（3）和第二微透鏡陣列（4）具有相同的單元間距，微縮束鏡陣列（1）的縮束比即第一微透鏡陣列（3）和第二微透鏡陣列（4）的焦距之比，微縮束鏡陣列（1）的填充因子即微透鏡陣列（3）的填充因子。

3.根據權利要求2所述的一種提高分立式微變形鏡填充因子的方法，其特征在于：所述的第二微透鏡陣列（4）是微凸透鏡陣列或是微凹透鏡陣列。

4.根據權利要求2所述的一種提高分立式微變形鏡填充因子的方法，其特征在于：所述的兩個焦點重合的第一微透鏡陣列（3）和第二微透鏡陣列（4）是折射型或是衍射型。

5.根據權利要求2所述的一種提高分立式微變形鏡填充因子的方法，其特征在于：所述的兩個焦點重合的第一微透鏡陣列（3）和第二微透鏡陣列（4）是單獨的兩個器件，或是將兩個微透鏡陣列加工在同一塊基底的兩個表面，形成一個單獨的和完整的微縮束鏡陣列（5）。