[發明專利]絕緣膜用感光性樹脂組合物及固化物

有效

• 申請號: 201410102923.8
• 申請日: 2014-03-19
• 公開（公告）號: CN104062849B
• 公開（公告）日: 2019-11-08
• 發明（設計）人: 高野正臣;山田裕章;滑川崇平;本間直人;林秀平
• 申請（專利權）人: 日鐵化學材料株式會社
• 主分類號: G03F7/027
• 分類號: G03F7/027;G03F7/004
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 金世煜;苗堃

1.一種絕緣膜的制造方法，其特征在于，在基板上涂布絕緣膜用感光性樹脂組合物，進行預烘焙、曝光、堿性顯影和后烘焙，由此形成所希望的圖案的絕緣膜，得到絕緣膜的膜厚為0.5～1.0μm，堿性顯影前后的殘膜率為95％以上，所述絕緣膜用感光性樹脂組合物，作為必需成分，含有：

(i)由下述通式(1)表示的在1個分子內具有羧基和聚合性不飽和基團的堿可溶性樹脂，

(ii)具有至少一個烯屬性不飽和鍵的光聚合性單體，

(iii)光聚合引發劑，以及

(iv)環氧化合物，

其中，R₁、R₂、R₃、以及R₄獨立地表示氫原子、碳原子數為1～5的烷基、鹵素原子或苯基，R₅表示氫原子或甲基；另外，X表示-CO-、-SO₂-、-C(CF₃)₂-、-Si(CH₃)₂-、-CH₂-、-C(CH₃)₂-、-O-、9,9-芴叉基或直接鍵合，Y表示4價的羧酸殘基，G表示具有聚合性雙鍵和羧基的取代基或者具有聚合性雙鍵和羥基的基團，Z表示下述通式(2)表示的取代基或者氫原子，n表示1～20的數；

其中，L表示2或3價的羧酸殘基，p為1或2。

2.根據權利要求1所述的絕緣膜的制造方法，其中，所述方法使用絕緣膜用感光性樹脂組合物，所述絕緣膜用感光性樹脂組合物中，相對于(i)成分和(ii)成分的總計100質量份，(iii)成分含有0.1～10 質量份，(iv)成分含有10～40質量份。

3.一種絕緣膜，是利用權利要求1或2所述的絕緣膜的制造方法得到的。