[發(fā)明專利]一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置和方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410100743.6 | 申請日: | 2014-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN103898479B | 公開(公告)日: | 2017-01-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 湯勇;黃云翔;楊曉軍;曾海峰;鐘?;?/a>;孫超衛(wèi) | 申請(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號: | C23C16/54 | 分類號: | C23C16/54;C23C16/30;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司44245 | 代理人: | 付茵茵,楊曉松 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高效 制備 硫化 薄膜 裝置 方法 | ||
1.一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,其特征在于:包括:
-將柔性的襯底平鋪輸送的輸送機(jī)構(gòu),
-進(jìn)行沉積反應(yīng)的沉積箱,
-與沉積箱相接的溶液加熱循環(huán)機(jī)構(gòu),
-洗刷襯底的滾筒洗刷機(jī)構(gòu),
-烘干襯底的烘干裝置;
所述沉積箱、滾筒洗刷機(jī)構(gòu)和烘干裝置沿著襯底的輸送方向依次設(shè)置。
2.按照權(quán)利要求1所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,其特征在于:所述輸送機(jī)構(gòu)包括:
-位于襯底輸送路線首端和尾端的、將襯底纏繞成卷的卷筒,
-位于襯底輸送路線中的、導(dǎo)引襯底的輸送方向的多個(gè)導(dǎo)輥,
-將襯底定位在沉積箱和烘干裝置中的多個(gè)調(diào)整輥。
3.按照權(quán)利要求1所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,其特征在于:所述沉積箱內(nèi)均勻分布有若干個(gè)超聲波震蕩器。
4.按照權(quán)利要求1所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,其特征在于:所述溶液加熱循環(huán)機(jī)構(gòu)包括:依次相接的第一流量控制器、水泵、三通閥、混合箱、蛇形盤管換熱器、保溫容器、第二流量控制器;第一流量控制器和第二流量控制器分別與沉積箱相接;三通閥的另一端通入溶液。
5.按照權(quán)利要求1所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,其特征在于:所述襯底的正面為硫化鎘薄膜,滾筒洗刷機(jī)構(gòu)與襯底的背面相接觸。
6.按照權(quán)利要求2所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,其特征在于:所述烘干裝置的前后兩端各設(shè)有一個(gè)調(diào)整輥,襯底穿過烘干裝置。
7.一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的方法,其特征在于:使用權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的裝置,包括如下步驟:
a.襯底展開:將成卷的襯底通過輸送機(jī)構(gòu)展開;
b.溶液配置:用于沉積反應(yīng)的溶液的配置;
c.溶液加熱:溶液通過溶液加熱循環(huán)機(jī)構(gòu)加熱;
d.反應(yīng)沉積:溶液注入沉積箱,在襯底上均勻流動(dòng),在襯底的正面生長出硫化鎘薄膜;
e.襯底的輸送:襯底從反應(yīng)沉積工序移至清洗工序;
f.襯底的清洗:對襯底的背面進(jìn)行清洗,得到潔凈的襯底;
g.潔凈的襯底的輸送:將潔凈的襯底輸送至烘干工序;
h.表面烘干:通過烘干裝置烘干襯底兩面的水分,固化表面;
i.襯底收起:將襯底纏繞成卷。
8.按照權(quán)利要求7所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的方法,其特征在于:所述步驟a中,展開的襯底同時(shí)置于沉積箱、滾筒洗刷機(jī)構(gòu)和烘干裝置中。
9.按照權(quán)利要求7所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的方法,其特征在于:所述步驟c中,加熱的溫度為60-90℃;步驟d中,反應(yīng)時(shí)間為8-30min。
10.按照權(quán)利要求7所述的一種卷對卷高效制備硫化鎘薄膜的方法,其特征在于:所述步驟d至i連續(xù)進(jìn)行。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機(jī)材料為特征的





