[發明專利]一種等離子體刻蝕裝置及干法刻蝕設備有效
| 申請號： | 201410100337.X | 申請日： | 2014-03-18 |
| 公開（公告）號： | CN103915304A | 公開（公告）日： | 2014-07-09 |
| 發明（設計）人： | 張定濤;徐守宇;吳成龍;鄭云友;宋泳珍;李偉 | 申請（專利權）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/04 | 分類號： | H01J37/04;H01J37/02;H01J37/305 |
| 代理公司： | 北京同達信恒知識產權代理有限公司 11291 | 代理人： | 黃志華 |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 刻蝕 裝置 設備 | ||
1.一種等離子體刻蝕裝置，包括氣體輸入端、下部電極和上部電極，其特征在于，所述上部電極包括多個上部子電極，所述裝置還包括：整流板、升降螺桿以及絕緣隔板，其中：
所述整流板位于所述氣體輸入端和所述上部子電極之間，用于將所述氣體輸入端輸入的反應氣體均勻分布在每個上部子電極表面；
所述升降螺桿與每個上部子電極連接，用于控制每個上部子電極與所述下部電極之間的距離；
所述絕緣隔板位于相鄰的兩個上部子電極之間，使得相鄰的上部子電極之間絕緣。
2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述上部電極包括9個上部子電極。
3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括設置有開孔的氧化鋁擋板，所述氧化鋁擋板位于所述氣體輸入端和所述整流板之間，用于將所述氣體輸入端輸入的氣體從所述氧化鋁擋板的開孔處輸出。
4.根據權利要求3所述的裝置，其特征在于，所述氧化鋁擋板上設置有9個開孔，分別位于所述氧化鋁擋板的中心區域、四角區域和四邊中心區域。
5.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述整流板設置有150*150個開孔。
6.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述整流板上的開孔的孔徑，是根據所述整流板上的開孔與所述氧化鋁擋板上的開孔之間的距離設置的，所述距離越大，所述整流板上的開孔的孔徑越大。
7.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述整流板上的開孔的最大孔徑為5毫米。
8.根據權利要求5所述的裝置，其特征在于，所述整流板上的開孔的最小孔徑為3毫米。
9.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于，所述絕緣隔板為陶瓷隔板。
10.一種干法刻蝕設備，其特征在于，所述設備包括權利要求1-9任一權項所述的等離子體刻蝕裝置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司，未經京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410100337.X/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：液壓懸置裝置及其工裝裝置、組裝方法
- 下一篇：一種發光體型薄膜開關
