[發明專利]插拔性優異的鍍錫銅合金端子材在審
| 申請號: | 201410097970.8 | 申請日: | 2014-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN104078782A | 公開(公告)日: | 2014-10-01 |
| 發明(設計)人: | 加藤直樹;井上雄基;樽谷圭榮 | 申請(專利權)人: | 三菱綜合材料株式會社 |
| 主分類號: | H01R13/03 | 分類號: | H01R13/03 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產權代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 插拔性 優異 鍍錫 銅合金 端子 | ||
1.一種鍍錫銅合金端子材,其在由Cu合金構成的基材上的表面形成有Sn系表面層,且在該Sn系表面層與所述基材之間形成有CuSn合金層,所述鍍錫銅合金端子材的特征在于,
所述CuSn合金層為以Cu6Sn5為主成分且在所述基材側界面附近具有該Cu6Sn5的Cu的一部分取代為Ni以及Si的化合物的合金層,所述CuSn合金層的算術平均粗糙度Ra至少在一個方向上為0.3μm以上,在所有方向上的算術平均粗糙度Ra為1.0μm以下,所述CuSn合金層的波谷深度Rvk為0.5μm以上,并且,所述Sn系表面層的平均厚度為0.4μm以上且1.0μm以下,動摩擦系數為0.3以下。
2.根據權利要求1所述的鍍錫銅合金端子材,其特征在于,
所述基材含有0.5質量%以上且5質量%以下的Ni和0.1質量%以上且1.5質量%以下的Si,剩余部分由Cu以及不可避免雜質構成。
3.根據權利要求2所述的鍍錫銅合金端子材,其特征在于,進一步含有總計5質量%以下的選自Zn、Sn、Fe、Mg中的1種以上。
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