[發(fā)明專利]一種銪摻雜的鐵酸鉍薄膜及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410097917.8 | 申請日: | 2014-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN103938156A | 公開(公告)日: | 2014-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉建;翟學(xué)珍;曹輝義;周文亮;楊平雄;褚君浩 | 申請(專利權(quán))人: | 華東師范大學(xué) |
| 主分類號: | C23C14/06 | 分類號: | C23C14/06;C23C14/28 |
| 代理公司: | 上海麥其知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31257 | 代理人: | 董紅曼 |
| 地址: | 200062 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 摻雜 鐵酸鉍 薄膜 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種銪摻雜的鐵酸鉍薄膜,其特征在于,包括襯底和靶材,所述靶材沉積在所述襯底上;其中,所述襯底是以鎳酸鑭為緩沖層的硅襯底,所述靶材組成式為Bi1-xEuxFeO3,0≤x≤0.07。
2.如權(quán)利要求1所述的銪摻雜的鐵酸鉍薄膜,其特征在于,x=0、0.03、0.05或0.07。
3.一種銪摻雜的鐵酸鉍薄膜的制備方法,其特征在于,包括如下步驟:
a)預(yù)準(zhǔn)備
以純度為99.99%的Bi1-xEuxFeO3作為靶材,其中0≤x≤0.07;以鎳酸鑭作緩沖層的硅襯底作為襯底;
對所述襯底清洗,將所述靶材和所述襯底放置于鍍膜室內(nèi),調(diào)節(jié)鍍膜室壓強(qiáng)至5×10-4Pa以下;
b)銪摻雜的鐵酸鉍薄膜的制備
對所述襯底加熱;以每分鐘10℃的速度使所述襯底升溫至700℃;充入純度為99.99%的氧氣,調(diào)節(jié)氣體流量使濺射氣壓為10Pa;在溫度700℃,氧壓10Pa條件下保持10分鐘;
所述襯底反轉(zhuǎn),所述靶材正轉(zhuǎn);調(diào)節(jié)所述襯底和所述靶材的距離為6cm;
設(shè)置脈沖激光器,使激光能量為200mJ,激光頻率為10Hz;
開啟所述脈沖激光器進(jìn)行薄膜沉積,沉積時間為60min;然后保溫30min;
以每分鐘20℃的速度降溫,至200℃時取出沉積得到的薄膜樣品,得到所述銪摻雜的鐵酸鉍薄膜。
4.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,重復(fù)所述預(yù)準(zhǔn)備、銪摻雜的鐵酸鉍薄膜的制備步驟,得到不同銪組分的Bi1-xEuxFeO3薄膜,其中x=0、0.03、0.05或0.07。
5.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,通過調(diào)整鍍膜室中的濺射靶位,使激光能量聚焦在不同的靶位上,從而濺射得到不同銪組分的Bi1-xEuxFeO3薄膜,其中x=0、0.03、0.05或0.07。
6.如權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于,對所述襯底清洗的方法為:依次以洗潔精、丙酮清洗所述襯底,再依次在酒精、去離子水中超聲30min后取出,保存于酒精溶液中。
7.一種如權(quán)利要求3-6之任何一項所述方法制備得到的銪摻雜的鐵酸鉍薄膜,其特征在于,包括襯底和靶材,所述靶材沉積在所述襯底上;其中,所述襯底是以鎳酸鑭為緩沖層的硅襯底,所述靶材組成式為Bi1-xEuxFeO3,0≤x≤0.07。
8.如權(quán)利要求1中所述銪摻雜的鐵酸鉍薄膜在鐵電光伏電池、光驅(qū)動器、光傳感器中的應(yīng)用。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





