[發(fā)明專利]干涉濾波器、光學(xué)濾波器裝置、光學(xué)模塊及電子設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410097629.2 | 申請日: | 2014-03-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104062700B | 公開(公告)日: | 2019-01-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 佐野朗 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | G02B5/28 | 分類號(hào): | G02B5/28;G02B26/00;G01J3/46;G01N21/65;G01N21/35 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 余剛;吳孟秋 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 干涉 濾波器 光學(xué) 裝置 模塊 電子設(shè)備 | ||
1.一種干涉濾波器,其特征在于,具備:
基板;
第一反射膜,設(shè)置在所述基板上;
第二反射膜,與所述第一反射膜對(duì)置;以及
第一電極,設(shè)置于所述第一反射膜的周圍,并且具備光吸收層和金屬層,
其中,所述光吸收層比所述金屬層設(shè)置在距離所述基板更近的位置,
從所述第二反射膜側(cè)觀察所述第一反射膜時(shí),所述第一反射膜的外周部的至少一部分與所述第一電極的內(nèi)周部重疊,
所述光吸收層被配置為與所述金屬層相接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器,其特征在于,所述第一電極的內(nèi)周緣的至少一部分與所述第一反射膜接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器,其特征在于,所述第一電極以框狀包圍所述第一反射膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器,其特征在于,具備:
可動(dòng)部,設(shè)置有所述第二反射膜,并且被設(shè)置為能夠在所述第二反射膜的厚度方向上位移,
其中,從所述厚度方向觀察時(shí),所述第一反射膜和所述第一電極的外周緣的最小距離大于所述第一反射膜和所述可動(dòng)部的外周緣的最小距離。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器,其特征在于,具備:
應(yīng)力緩和膜,與所述第一電極對(duì)置地設(shè)置在所述基板的設(shè)置有所述第一電極的面的相反面上,
其中,所述應(yīng)力緩和膜具備兩個(gè)光吸收層和設(shè)置于所述兩個(gè)光吸收層之間的金屬層。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器,其特征在于,
所述第一反射膜具有導(dǎo)電性,并且
所述第一電極與所述第一反射膜導(dǎo)通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的干涉濾波器,其特征在于,
所述第二反射膜具有導(dǎo)電性,并且
所述干涉濾波器具備連接至所述第二反射膜的鏡電極。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的干涉濾波器,其特征在于,具備:
第二電極,設(shè)置在所述可動(dòng)部上,并且與所述第一電極的至少一部分對(duì)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的干涉濾波器,其特征在于,
所述第二電極具備電獨(dú)立的多個(gè)部分電極,并且
所述第一電極為所述多個(gè)部分電極的公用電極。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干涉濾波器,其特征在于,
所述基板通過玻璃材料形成,
所述光吸收層通過TiW、TiN、NiCr、TiO2、Al2O3、MgF2、Nd2O3及Ta2O5中的至少一種形成于所述基板上,并且
所述金屬層形成于所述光吸收層上。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的干涉濾波器,其特征在于,
所述金屬層通過Au、Al、Ti、Ag、W、Nb、Ta、Mo、Cu、Ni、Co、Zn、Fe及Pt中的至少一種形成。
12.一種干涉濾波器,其特征在于,具備:
第一反射膜;
第二反射膜,與所述第一反射膜對(duì)置;以及
第一電極,設(shè)置于所述第一反射膜的周圍,并且具備光吸收層和金屬層,
其中,所述光吸收層在從所述第一反射膜朝向所述第二反射膜的方向上比所述金屬層設(shè)置在距離所述第二反射膜更遠(yuǎn)的位置,
從所述第二反射膜側(cè)觀察所述第一反射膜時(shí),所述第一反射膜的外周部的至少一部分與所述第一電極的內(nèi)周部重疊,
所述光吸收層被配置為與所述金屬層相接。
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