[發明專利]通過線束改進的熱處理

有效

• 申請號: 201410097021.X
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN104043900B
• 公開（公告）日: 2019-06-28
• 發明（設計）人: S·R·卡爾森;K·W·肯尼迪;R·J·馬丁森
• 申請（專利權）人: 恩耐公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/268;B23K26/064;B23K26/06
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 周家新

1.一種曝光設備，包括：

第一光纖，被耦合以接收第一脈沖光束；

第二光纖，被耦合以接收第二脈沖光束，其中所述第一脈沖光束與第一波長相關聯，且所述第二脈沖光束與第二波長相關聯；

一個控制系統，被耦合以控制第一脈沖光束和第二脈沖光束，其中所述控制系統確定第一脈沖光束和第二脈沖光束的束功率、脈沖能量、重復率以及波長，以基于吸收系數與波長的依賴關系，能量被沉積在襯底的各種深度；以及

一個光學系統，被定位以接收來自所述第一光纖的所述第一脈沖光束和來自所述第二光纖的所述第二脈沖光束，并使得所述第一脈沖光束形成第一線束，使得所述第二脈沖光束形成第二線束，并且將所述第一線束和所述第二線束分別引導至所述襯底的一個表面，其中，所述襯底包括一個表面層和一個塊襯底層，其中所述第一脈沖光束和所述第二脈沖光束傳輸經過所述表面層之后從所述塊襯底層的外表面反射至所述表面層。

2.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一線束和所述第二線束分別具有長度和寬度，其中所述長度大于所述寬度，且所述第一線束和所述第二線束在所述襯底的所述表面處、在一個具有對應于所述長度中的至少一個的長度的區域中部分地重疊。

3.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一線束和所述第二線束分別具有長度和寬度，其中所述長度大于所述寬度，且所述第一線束和所述第二線束在所述表面處、在對應于至少一個寬度的方向上間隔開。

4.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一線束具有的面積大于所述第二線束的面積，且在所述表面處，所述第二線束的面積被包含在所述第一線束的面積內。

5.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一波長和所述第二波長是不同的波長，且所述第一線束和所述第二線束在所述襯底的所述表面處基本重疊。

6.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一脈沖光束具有第一脈沖持續時間和第一脈沖重復率，且所述第二脈沖光束具有第二脈沖持續時間和第二脈沖重復率，其中至少所述第一脈沖持續時間與所述第二脈沖持續時間是不同的，或所述第一脈沖重復率與所述第二脈沖重復率是不同的。

7.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一線束在所述襯底的所述表面上具有的面積大于所述第二線束在所述襯底的所述表面上的面積，且所述第一脈沖光束的波長在所述襯底中的吸收系數小于所述第二波長在所述襯底中的吸收系數。

8.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一光纖具有的纖芯直徑與所述第二光纖的纖芯直徑不同。

9.根據權利要求1所述的曝光設備，還包括一個掃描系統，所述掃描系統能操作以掃描所述第一和第二線束，使得所述第一線束在所述第二線束之前被掃描跨越襯底區域。

10.根據權利要求9所述的曝光設備，其中所述第一線束被配置以加熱所述襯底的一個區域，之后將所述襯底的所述區域曝光至所述第二線束。

11.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述光學系統包含第一光學系統和第二光學系統，其中所述第一光學系統被定位以形成所述第一線束，且所述第二光學系統被定位以形成所述第二線束。

12.根據權利要求1所述的曝光設備，其中所述第一線束被配置以焊接所述襯底，且所述第二線束被配置以對已焊接的襯底進行退火。