[發明專利]一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置

無效

• 申請號: 201410095858.0
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN103920373A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發明（設計）人: 劉儼;胥強
• 申請（專利權）人: 蘇州亞都環保科技有限公司
• 主分類號: B01D53/22
• 分類號: B01D53/22;B01D46/54
• 代理公司: 蘇州銘浩知識產權代理事務所(普通合伙) 32246
• 代理人: 王軍

技術領域

本發明涉及空氣凈化處理裝置領域，特別是涉及一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置。

背景技術

????隨著人們生活水平的提高，對于室內空氣質量要求也日益上升。尤其是在人口密集的公共場所，例如電影院等，觀眾大量擁堵使得密閉空間內的空氣品質下降使得消費者感到胸悶，頭暈等。凈化和改善室內空氣質量，膜法分離凈化生產的富氧空氣取自自然空氣，以模分離滲透方式凈化并富集其中的氧氣。制備出的富氧空氣濃度大于28%，并且凈化過濾了空氣中的各種污染物包括：塵埃、氣溶膠、花粉、細菌、病毒等。有效的解決了由于密閉空間氧氣過低而引起的身體不適，營造出一個相對健康的室內環境。

發明內容

本發明主要解決的技術問題是提供一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置，其設計合理，結構簡單，解決室內空氣質量低下的問題。

為解決上述技術問題，本發明采用的一個技術方案是提供一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置，該裝置安裝于通風管道上并由可編程控制器遠程控制，其構件依次包括：鼓風機、膜分離組件、真空泵和富氧彌散口；空氣由鼓風機吸入并被送入膜分離組件中經富氧處理后排入室內；所述膜分離組件包括：空氣均配箱、卷式膜組件和真空均分器；該膜分離組件與真空泵之間還設有調節閥和真空表。

優選的是，所述真空泵與富氧彌散口之間還設有穩壓裝置，該穩壓裝置包括：穩壓罐體以及設置在該穩壓罐體上的：壓力表、放空閥、取樣閥和排污閥。

優選的是，所述穩壓裝置上還設有空調制冷系統。

優選的是，所述真空泵為旋片式無油真空泵。

本發明的有益效果是：提供一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置，由通風管道將富氧空氣輸送到室內，增加室內氧氣濃度，有效解決了由于密閉空間氧氣過低而引起的疲勞﹑困倦﹑大腦供養不足﹑皮膚缺氧老化等問題。同時由于采用富氧分離膜的獨特構造，能夠有效隔離室外空氣中的細菌、氣溶膠和灰塵等，使得病毒不因為室內外空氣的交換而產生交叉感染和繁衍，潔凈空氣活化氧，營造一個相對獨立的健康環境。

附圖說明

圖1是本發明一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置的截面示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、可編程控制器；2、鼓風機；3、膜分離組件；4、真空泵；5、富氧彌散口；6、調節閥；7、真空表；8、穩壓裝置；9、空調制冷系統。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明的較佳實施例進行詳細闡述，以使本發明的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本發明的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱附圖1，本發明實施例包括：

一種高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置，該裝置安裝于通風管道上并由PLC可編程控制器遠程控制，整個系統操作比較簡單，僅過濾系統需要日常保養，風機、真空泵需定期保養維護，其它均免維護，而且整個系統均處于監控之中，出現問題會立刻報警。本裝置的主要構件依次包括：鼓風機2、膜分離組件3、真空泵4和富氧彌散口5；所述真空泵4為旋片式無油真空泵。空氣由鼓風機2吸入并被送入膜分離組件3中經富氧處理后排入室內；所述膜分離組件3包括：空氣均配箱、卷式膜組件和真空均分器；該膜分離組件3與真空泵4之間還設有調節閥6和真空表7。所述真空泵4與富氧彌散口5之間還設有穩壓裝置8，該穩壓裝置8包括：穩壓罐體以及設置在該穩壓罐體上的：壓力表、放空閥、取樣閥和排污閥。所述穩壓裝置8上還設有空調制冷系統9。

該高分子膜法凈化空氣并將氧氣富集的裝置中鼓風機2是為膜分離組件3提供新鮮空氣，工作壓力大于1KPa；膜分離組件3是用于空氣凈化，分離空氣中氮氣和氧氣的設備，可以富集氧氣，濾除空氣中的病菌、氣溶膠、塵埃等；真空泵4是用于提供膜分離組件工作的壓差，真空度小于-0.07MPa；富氧彌散口5是將膜分離組件3凈化分離出來的29%左右富氧氣引入相對密閉的室內。因此，本設備的工作模式有富氧凈化新風模式和將富氧凈化新風與空調系統的制冷相結合模式。與其它凈化、富氧設備相比，具有成本較低，操作簡單、可靠、安全等優點。而且，進入相對密閉空間的富氧氣體濕潤，隔離凈化了空氣中的細菌、氣溶膠和灰塵等。達到提高空氣質量，改善呼吸提高血氧飽和度，提高思維、行為和工作能力的效果。

以上所述僅為本發明的實施例，并非因此限制本發明的專利范圍，凡是利用本發明說明書內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本發明的專利保護范圍內。