[發明專利]一種輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法

無效

• 申請號: 201410095038.1
• 申請日: 2014-03-14
• 公開（公告）號: CN103882426A
• 公開（公告）日: 2014-06-25
• 發明（設計）人: 崔學軍;林修洲;劉春海;金永中;楊瑞嵩;李明田;龔敏
• 申請（專利權）人: 四川理工學院
• 主分類號: C23C28/00
• 分類號: C23C28/00
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214
• 代理人: 吳彥峰

1.一種輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于：該制備方法包括微弧氧化技術和多弧離子鍍技術，制備微弧氧化膜-鍍層復合涂層。

2.一種輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于：該制備方法包括微弧氧化技術和輝光等離子滲金屬技術，制備微弧氧化膜-滲層復合涂層。

3.一種輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于：該制備方法包括微弧氧化技術和弧輝離子滲鍍技術，制備微弧氧化膜-滲鍍層復合涂層。

4.根據權利要求1所述的輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于包括以下具體步驟：首先在輕金屬及其合金表面采用微弧氧化技術獲得微弧氧化陶瓷膜后，進行清洗處理，然后采用多弧離子鍍技術，制備微弧氧化膜-鍍層復合涂層。

5.根據權利要求2所述的輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于包括以下具體步驟：首先在輕金屬及其合金表面采用微弧氧化技術獲得微弧氧化陶瓷膜后，清洗處理，然后采用輝光等離子滲金屬技術，制備微弧氧化膜-滲層復合涂層。

6.根據權利要求3所述的輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于包括以下具體步驟：首先在輕金屬及其合金表面采用微弧氧化技術獲得微弧氧化陶瓷膜后，清洗處理，采用弧輝離子滲鍍技術，制備微弧氧化膜-滲鍍層復合涂層。

7.根據權利要求3-6中任意一項權利要求所述的輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于：所述的微弧氧化陶瓷膜，包括恒壓模式、恒流模式、恒功率模式下不同電解質體系中制備的陶瓷膜，微弧氧化膜層的厚度為1-50微米。

8.根據權利要求1-6中任意一項權利要求所述的輕金屬及其合金表面復合涂層的制備方法，其特征在于：所述的輕金屬及其合金是指包括鎳、鉻、鎢、鉬、鈦、鋁、鈮、鋯、鉭、鉛金屬及其金屬之間的合金、及這些金屬與非金屬碳、氮、氧之間形成的合金。