[發(fā)明專利]清潔電子元件的清潔設(shè)備及工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410093758.4
• 申請日: 2014-03-13
• 公開（公告）號: CN104907288A
• 公開（公告）日: 2015-09-16
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 樸健禹
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞高偉光學(xué)電子有限公司
• 主分類號: B08B7/04
• 分類號: B08B7/04;B08B7/00;B08B5/02
• 代理公司: 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237
• 代理人: 仉玉新

1.一種用于清潔電子元件的清潔設(shè)備，所述清潔設(shè)備包括：

多個處理區(qū)，所述電子元件在每一處理區(qū)經(jīng)過各自的處理時間之處理，其中所述之各自的處理時間至少一個不同于其它的處理時間；和

多個單獨(dú)操控的傳送裝置，所述傳送裝置用于將所述電子元件相繼傳送到每一個處理區(qū)，以使所述電子元件順序通過每個處理區(qū)依次進(jìn)行處理。

2.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其包括一個或多個緩沖區(qū)及一個或多個單獨(dú)操控的傳送裝置，所述傳送裝置用于傳送所述電子元件到所述緩沖區(qū)，好讓電子元件離開所述處理區(qū)以等待至下一個處理區(qū)準(zhǔn)備好接收該電子元件。

3.如權(quán)利要求2所述的清潔設(shè)備，其特征在于，至少一個緩沖區(qū)是垂直棧式存儲器的形式，所述垂直棧式存儲器用于以垂直堆棧的方式堆疊多個所述電子元件。

4.如權(quán)利要求2所述的清潔設(shè)備，其特征在于，至少一個緩沖器區(qū)是由一個傳送裝置而成，所述傳送裝置的長度能容納隊列形式的多個所述電子元件。

5.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其特征在于，在一個處理區(qū)中，在大氣壓力下對所述電子元件施加等離子。

6.如權(quán)利要求5所述的清潔設(shè)備，其特征在于，在于大氣壓力下對電子元件施下等離子的處理區(qū)，還對電子元件應(yīng)用去離子水。

7.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其特征在于，在一個處理區(qū)中，吹送氣體到所述電子元件上以移除所述電子元件上的污染物。

8.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其特征在于，在一個處理區(qū)中，對所述電子元件進(jìn)行真空處理以去除電子元件上的污染物。

9.如權(quán)利要求1所述的清潔設(shè)備，其特征在于，所述處理區(qū)之一是對所述電子元件吹送氣體的吹風(fēng)區(qū)，另一個處理區(qū)是對所述電子元件進(jìn)行真空處理的真空區(qū)，又一個處理區(qū)是在大氣壓力下對電子元件施加等離子的等離子區(qū)，所述吹風(fēng)區(qū)在所述真空區(qū)之前，且所述真空區(qū)在所述等離子區(qū)之前。

10.一種用于清潔電子元件的清潔工藝，所述清潔工藝包括：

多個單獨(dú)操控的傳送裝置以將所述電子元件相繼的傳送到每一個處理區(qū)，以使所述電子元件通過所述處理區(qū)順序進(jìn)行處理；和

在每一個處理區(qū)通過各自的處理時間處理所述電子元件，其中至少一個所述的各自的處理時間不同于其它的處理時間。