[發明專利]保護電解池側壁的系統和方法

有效

• 申請號: 201410093321.0
• 申請日: 2014-03-13
• 公開（公告）號: CN104047025B
• 公開（公告）日: 2017-10-13
• 發明（設計）人: 劉興華;小D·A·韋勞奇;F·E·菲爾普斯;J·M·戴尼斯;J·克爾克霍夫;R·A·迪米利亞
• 申請（專利權）人: 美鋁美國公司
• 主分類號: C25C3/00
• 分類號: C25C3/00;C25C7/00;C25C3/06;C25C3/08
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所11038
• 代理人: 林振波

1.一種電解池，包括：

陽極；

與陽極成間隔開關系的陰極；

與陽極和陰極液體連通的熔融電解液，其中，所述熔融電解液包括含有至少一種電解液成分的電解液化學成分；

電解池主體，其具有底部和圍繞底部的至少一個側壁，其中，所述電解池主體被設置用于保留所述熔融電解液，其中，所述側壁由所述至少一種電解液成分構成，所述側壁進一步包括：

第一側壁部分，被設置為安裝到側壁的隔熱封裝上并保留電解質；以及

第二側壁部分，被設置為從電解池主體的底部向上延伸，

其中，第二側壁部分與第一側壁部分橫向間隔開，以使第一側壁部分、第二側壁部分以及第一側壁部分和第二側壁部分之間的基底界定出凹槽；

其中，所述凹槽被設置用于與電解池底部分開地接納保護性沉積物并且保留保護性沉積物；

其中，所述保護性沉積物被設置用于從凹槽分解到熔融電解液內，以使熔融電解液包括的所述至少一種電解液成分的水平足以在熔融電解液內維持第一側壁部分和第二側壁部分。

2.如權利要求1所述的電解池，其中，所述電解液成分包括在1％的飽和度以內的平均電解液含量。

3.如權利要求1所述的電解池，其中，所述電解液成分的飽和度是至少95％的飽和度。

4.如權利要求1所述的電解池，其中，所述電解液成分包括在靠近側壁的位置測量的電解液含量飽和百分比。

5.如權利要求4所述的電解池，其中，所述靠近側壁的位置進一步包括：距離側壁不大于6″。

6.一種電解池，包括：

陽極；

與陽極成間隔開關系的陰極；

與陽極和陰極液體連通的熔融電解液，其中，所述熔融電解液包括含有至少一種電解液成分的電解液化學成分；

電解池主體，其具有底部和圍繞底部的至少一個側壁，其中，所述電解池主體被設置用于保留所述熔融電解液，其中，所述側壁由所述至少一種電解液成分構成，所述側壁進一步包括：

第一側壁部分，被設置為安裝到側壁的隔熱封裝上并保留電解質；以及

第二側壁部分，被設置為從電解池主體的底部向上延伸，其中，第二側壁部分與第一側壁部分橫向間隔開，以使第一側壁部分、第二側壁部分以及第一側壁部分和第二側壁部分之間的基底界定出凹槽；其中，所述凹槽被設置用于與電解池底部分開地接納保護性沉積物并且保留保護性沉積物；

其中，所述保護性沉積物被設置用于從凹槽分解到熔融電解液內，以使熔融電解液包括的所述至少一種電解液成分的水平足以在熔融電解液內維持第一側壁部分和第二側壁部分；以及

引導元件，其中，所述引導元件位于第一側壁部分和第二側壁部分之間，其中，所述引導元件在所述凹槽上方橫向間隔開，以使所述引導元件被設置用于將保護性沉積物引導到所述凹槽內。

7.如權利要求6所述的電解池，其中，所述電解液成分包括在1％的飽和度以內的平均電解液含量。

8.如權利要求6所述的電解池，其中，所述電解液成分的飽和度是至少95％的飽和度。

9.如權利要求6所述的電解池，其中，所述電解液成分包括在靠近側壁的位置測量的電解液含量飽和百分比。

10.如權利要求9所述的電解池，其中，所述靠近側壁的位置進一步包括：距離側壁不大于6″。

11.一種電解池組件，包括：

電解池側壁，具有第一側壁部分和第二側壁部分，以及

隔熱封裝，第一側壁部分和第二側壁部分連接至隔熱封裝，

其中，第二側壁部分被設置為相對于隔熱封裝與第一側壁部分對齊，

其中，第二側壁部分被設置為以階梯式結構從側壁伸出，第一側壁部分、第二側壁部分以及在第一側壁部分和第二側壁部分之間的基底界定出凹陷區域，

其中，第二側壁部分包括界定出階梯式結構的上表面和側面。

12.如權利要求11所述的電解池組件，其中，所述上表面被設置用于提供平面。

13.如權利要求11所述的電解池組件，其中，所述上表面被設置用于提供斜面，其中，所述斜面包括朝向第一側壁部分的傾斜部，以通過第二側壁部分的上表面和第一側壁部分之間的配合來提供凹陷區域。