[發(fā)明專利]陽離子電沉積涂覆系統(tǒng)用緩釋性殺菌·抗菌劑無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410092974.7 | 申請日: | 2009-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN103875683A | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 新井重文;渡邊慎也;越智克樹 | 申請(專利權)人: | 日本曹達株式會社 |
| 主分類號: | A01N43/80 | 分類號: | A01N43/80;A01P3/00;C09D5/44;C09D7/12;C25D13/10 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權代理有限公司 11227 | 代理人: | 苗堃;趙曦 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陽離子 沉積 系統(tǒng) 用緩釋性 殺菌 抗菌劑 | ||
本發(fā)明專利申請是針對申請日為2009年11月02日、申請?zhí)枮?00980142178.7、發(fā)明名稱為“陽離子電沉積涂覆系統(tǒng)用緩釋性殺菌·抗菌劑”的申請?zhí)岢龅姆职干暾垺?/p>
技術領域
本發(fā)明涉及對陽離子電沉積及其涂膜物性沒有不良影響、補充操作容易的陽離子電沉積涂覆系統(tǒng)用緩釋性殺菌·抗菌劑。
本申請基于2008年11月4日在日本申請的特愿2008-283366號要求優(yōu)先權,并將其內容援引于此。
背景技術
陽離子電沉積涂料因為能夠形成具有深鍍性(在具有袋部結構的被涂物等難以鍍覆涂料的位置也可以形成涂膜的性能)優(yōu)異、耐久性或防腐蝕性等優(yōu)異的性能的涂膜,所以廣泛用作汽車車體或電氣制品等導電性金屬的底涂涂料。以往,因為陽離子電沉積涂料是非水(溶劑)系,所以電沉積浴中的有機溶劑起到防腐劑的作用,不是特別需要防腐劑。但是,近年來陽離子電沉積涂料換為水系,隨之出現(xiàn)因電沉積浴腐敗、微生物孳生而難以形成電沉積膜、或已形成的膜剝離,外觀不良、防腐蝕性不良等容易發(fā)生等問題。
作為陽離子電沉積涂料所使用的涂料,可使用用作為中和劑的有機酸(例如,氨基磺酸、乙酸、二羥甲基丙酸、甲酸以及乳酸)將堿性樹脂(例如,胺改性環(huán)氧樹脂)中和、并水溶化或乳化而成的涂料。進行陽離子電沉積涂覆時,在陽極附近產(chǎn)生中和酸根離子。已知通過除去該電沉積槽內蓄積的一定濃度以上的中和酸根離子來促進電沉積。因此,例如,介由由離子交換膜構成的隔膜選擇性地將過剩中和酸根離子導入隔膜室,將含有該過剩中和酸根離子等的隔膜液(電極液)送至電極液槽,實施規(guī)定的處理,然后一部分返回電沉積槽。該電極液中容易孳生真菌類、細菌等微生物。因該細菌等的孳生,出現(xiàn)難以形成電沉積膜、已形成的膜剝離、外觀不良、防腐蝕性不良等容易發(fā)生等問題。
作為試圖解決上述這樣的問題的方法,在專利文獻1中,公開了含有5-氯-2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮和2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮的陽離子性電沉積涂料組合物。該陽離子性電沉積涂料組合物可以防止電沉積涂料中孳生細菌、霉、酵母等微生物以及殺滅微生物。在專利文獻2中,公開了含有由氯甲基異噻唑啉酮、甲基異噻唑啉酮、辛基異噻唑啉酮等異噻唑啉酮化合物構成的抗菌劑的電沉積涂料組合物。因為專利文獻1和2中公開的異噻唑啉系化合物常溫下是液體,所以可以直接添加到涂料中。
另外,在專利文獻3中,記載了含有4,5-二氯-2-辛基-4-異噻唑啉-3-酮與1,4-雙(溴乙酰氧基)-2-丁烯或1,2-苯并異噻唑啉-3-酮的工業(yè)用防菌防霉劑。在專利文獻4中,記載了含有1,2-苯并異噻唑啉-3-酮與2-正辛基-4-異噻唑啉-3-酮的工業(yè)用抗菌劑。在專利文獻5中,記載了含有1,2-苯并異噻唑啉-3-酮與1,4-雙(溴乙酰氧基)-2-丁烯的工業(yè)用抗菌劑。因為這些專利文獻3~5中記載的防菌防霉劑或抗菌劑常溫下是固體,所以為了使該固體成分不影響涂料等的性能,使其均勻地溶解到溶劑中,以該溶液的形式添加到涂料等中。但是,專利文獻3~5中沒有記載適用于陽離子電沉積涂覆系統(tǒng)。專利文獻3~5中記載的抗菌劑難溶于陽離子電沉積涂料,沒有完全溶解的抗菌劑粉末有可能給涂膜帶來影響,所以沒有應用于陽離子電沉積涂覆系統(tǒng)。
實施了電沉積涂覆的被涂物隨后被輸送機從電沉積槽中移到槽外,但被涂物表面附著有少量的電沉積涂料液。因此,為了除去該電沉積涂料液,對被涂物實施水洗處理。例如,實施了電沉積涂覆的被涂物一邊被輸送機輸送,一邊通過浸漬水洗裝置、噴射水洗裝置、工業(yè)用水噴射清洗裝置、離子交換水噴射清洗裝置等進行水洗,除去其表面附著的電沉積涂料液。對于浸漬水洗裝置和噴射水洗裝置,是用存積(保持)在浸漬水洗槽或清洗水貯槽中的清洗水進行清洗。這樣存積的清洗水中容易孳生菌類(霉)、細菌等微生物。這些微生物主要在浸漬水洗槽或清洗水貯槽的內壁表面成群地附著為膜狀生存,但是這種膜狀的附著物(粘液)的一部分常常從內壁表面剝離,形成漂浮于清洗水中的絮凝物。而這種絮凝物有附著或粘合在實施了電沉積涂覆的被涂物的涂膜上的趨勢,如果絮凝物附著于被涂物的涂膜,則有可能該絮凝物即使通過之后的工業(yè)用水噴射清洗裝置或離子交換水噴射清洗裝置的清洗也很難除去,直接帶入下一步的涂覆工序,導致出現(xiàn)不良涂膜。
作為嘗試解決這種問題的方法,在專利文獻6中,記載了在電沉積涂覆的清洗水中添加異噻唑啉酮系的抗菌劑(5-氯-2-甲基-異噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮等)。因為5-氯-2-甲基-異噻唑啉-3-酮、2-甲基-4-異噻唑啉-3-酮常溫下是液體,所以將該化合物直接添加到補充的清洗水中進行使用。
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- 同類專利
- 專利分類
A01N 人體、動植物體或其局部的保存
A01N43-00 含有雜環(huán)化合物的殺生劑、害蟲驅避劑或引誘劑,或植物生長調節(jié)劑
A01N43-02 .具有帶1個或更多的氧或硫原子作為僅有的環(huán)雜原子的環(huán)
A01N43-34 .具有帶1個氮原子作為僅有的環(huán)雜原子的環(huán)
A01N43-48 .具有帶兩個氮原子作為僅有的環(huán)雜原子的環(huán)
A01N43-64 .具有帶3個氮原子作為僅有的環(huán)雜原子的環(huán)
A01N43-713 .具有帶4個或更多的氮原子作為僅有的環(huán)雜原子的環(huán)





