[發明專利]基板處理裝置

有效

• 申請號: 201410092445.7
• 申請日: 2014-03-13
• 公開（公告）號: CN104051302B
• 公開（公告）日: 2017-04-12
• 發明（設計）人: 佐藤雅伸;屋敷啟之
• 申請（專利權）人: 斯克林集團公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司72003
• 代理人: 金相允,浦柏明

1.一種基板處理裝置，用于處理基板，其特征在于，包括：

基板保持部，其用于保持基板；

杯部，其包圍所述基板保持部的周圍；

噴射頭，其在所述杯部的內側，配置在所述基板保持部的上方，用于向所述基板噴射處理液；

待機艙，其配置在所述杯部的外側，用于在所述噴射頭待機時容置所述噴射頭的下端部；

供給部移動機構，其用于將所述噴射頭從所述基板保持部的上方移動至所述待機艙的上方的檢查位置；

光出射部，其通過沿預先規定的光存在面而出射光，在從位于所述檢查位置的所述噴射頭向所述待機艙噴射的處理液通過所述光存在面時，向所述處理液照射光；

拍攝部，其對通過所述光存在面的所述處理液進行拍攝，從而獲取包含有在所述處理液上出現的亮點的檢查圖像；

判斷部，其基于所述檢查圖像來判斷所述噴射頭的噴射動作是否良好。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述光存在面，通過位于所述檢查位置的所述噴射頭的下端和所述待機艙的上端之間的間隙。

3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有拍攝部清掃部，該拍攝部清掃部用于清掃所述拍攝部的拍攝方向前側的面。

4.如權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有光出射部清掃部，該光出射部清掃部用于清掃所述光出射部的光出射方向前側的面。

5.如權利要求4所述的基板處理裝置，其特征在于，

投影拍攝軸和投影光軸具有交點，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的；

第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上的所述交點與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上的所述交點與所述光出射部之間的部位。

6.如權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有遮光腔室，其內部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內部空間入射的光。

7.如權利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，

所述噴射頭具有分別噴射所述處理液的多個噴射口；

所述光出射部，在從所述多個噴射口噴射的所述處理液即多個飛濺體通過所述光存在面時，向所述多個飛濺體照射光；

所述拍攝部，對通過所述光存在面的所述多個飛濺體進行拍攝，獲取包含有在所述多個飛濺體上出現的多個亮點的所述檢查圖像；

所述判斷部，基于所述檢查圖像來判斷所述多個噴射口中的各噴射口的噴射動作是否良好。

8.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有拍攝部清掃部，該拍攝部清掃部用于清掃所述拍攝部的拍攝方向前側的面。

9.如權利要求8所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有光出射部清掃部，該光出射部清掃部用于清掃所述光出射部的光出射方向前側的面。

10.如權利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，

投影拍攝軸和投影光軸具有交點，所述投影拍攝軸是使所述拍攝部的拍攝軸在與來自所述噴射頭的處理液的噴射方向相垂直的投影面上沿所述噴射方向投影而得到的，所述投影光軸是使所述光出射部的光軸在所述投影面上沿所述噴射方向投影而得到的；

第一部位和第二部位所形成的角度大于90度，所述第一部位是指在所述投影拍攝軸上的所述交點與所述拍攝部之間的部位，所述第二部位是指在所述投影光軸上的所述交點與所述光出射部之間的部位。

11.如權利要求10所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有遮光腔室，其內部空間容置所述噴射頭、所述光出射部及所述拍攝部，并且，該遮光腔室遮斷從外部向所述內部空間入射的光。