[發明專利]蝕刻液濃度測量裝置及方法

有效

• 申請號: 201410091097.1
• 申請日: 2014-03-12
• 公開（公告）號: CN103868866A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 徐蕊;張維維
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: G01N21/31
• 分類號: G01N21/31
• 代理公司: 深圳市順天達專利商標代理有限公司 44217
• 代理人: 蔡曉紅

1.一種蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，包括濃度測量機構（2）及與所述濃度測量機構（2）相連的酸霧消除機構（1），所述酸霧消除機構（1）用于消除所述濃度測量機構（2）內部的酸霧，所述濃度測量機構（2）用于實時接收蝕刻液并在無酸霧環境下測量所述蝕刻液混酸中各酸的吸光度，并根據所述吸光度計算所述蝕刻液混酸中各酸的濃度。

2.根據權利要求1所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，還包括與所述濃度測量機構（2）相連的盛裝所述蝕刻液的供應槽（3），所述供應槽（3）用于實時向所述濃度測量機構（2）供應蝕刻液。

3.根據權利要求2所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，所述酸霧消除機構（1）內有干燥氣體，且所述酸霧消除機構（1）與所述濃度測量機構（2）之間形成循環回路，所述酸霧消除機構（1）內的干燥氣體在將所述濃度測量機構（2）內的酸霧帶出并對帶出的酸霧進行干燥處理后，所述處理后的干燥氣體又循環至所述濃度測量機構（2）內。

4.根據權利要求3所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，所述酸霧消除機構（1）包括：

分別與所述濃度測量機構（2）連接的進氣管路（11）和出氣管路（12）；

與所述進氣管路（11）固定連接的儲氣罐（13），所述干燥氣體裝在所述儲氣罐（13）內；

設置在所述出氣管路（12）與所述儲氣罐（13）之間的干燥罐（14），且所述儲氣罐（13）、進氣管路（11）、濃度測量機構（2）、出氣管路（12）和干燥罐（14）形成所述循環回路，所述干燥罐（14）內裝有干燥劑。

5.根據權利要求4所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，所述儲氣罐（13）內裝的干燥氣體為空氣或氮氣。

6.根據權利要求4所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，所述干燥劑為氧化鈣和氫氧化鈉的混合物。

7.根據權利要求4所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，還包括用于連通所述干燥罐（14）和儲氣罐（13）的單向管路（15），所述干燥罐（14）干燥后的干燥氣體經所述單向管路（15）回流至所述儲氣罐（13）內。

8.根據權利要求1-7任意一項所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，所述蝕刻液按重量百分含量包括：70%～72%磷酸，1.8%～2.0%硝酸，9.5%～10.5%醋酸和余量的水。

9.根據權利要求7所述的蝕刻液濃度測量裝置，其特征在于，所述進氣管路（11）上設有用于調節所述儲氣罐（13）內的干燥氣體流量的第一閥門（16），所述單向管路（15）上設有用于調節所述干燥罐（14）內的干燥氣體流量的第二閥門（17）。

10.一種蝕刻液濃度測量方法，利用蝕刻液濃度測量裝置進行測量，其特征在于，所述蝕刻液濃度測量裝置包括濃度測量機構（2）、為所述濃度測量機構（2）供應蝕刻液的供應槽（3）及用于消除所述濃度測量機構（2）內的酸霧的酸霧消除機構（1）；所述測量方法包括以下步驟：

連接所述酸霧消除機構（1）與濃度測量機構（2）；

將所述供應槽（3）與濃度測量機構（2）在線連接起來；

所述供應槽（1）內的蝕刻液流向所述濃度測量機構（2）內，開啟所述酸霧消除機構（1），使所述濃度測量機構（2）內部的酸霧被帶出并將帶出的酸霧進行干燥處理后循環至所述濃度測量機構（2）內再帶出酸霧；

所述濃度測量機構（2）在無酸霧環境下實時測量所述蝕刻液混酸中各酸的吸光度，并根據所述吸光度計算所述蝕刻液混酸中各酸的濃度。