[發明專利]閥座組件

有效

• 申請號: 201410090069.8
• 申請日: 2014-03-06
• 公開（公告）號: CN104048051B
• 公開（公告）日: 2019-03-01
• 發明（設計）人: B·W·貝爾
• 申請（專利權）人: 費希爾控制國際公司
• 主分類號: F16K1/00
• 分類號: F16K1/00;F16K1/42;F16K1/46
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 曹雯

1.一種閥座組件，其特征在于，包括：

閥籠、耦接到所述閥籠的閥座以及耦接到所述閥座的保持器，所述閥座組件被設置在閥體中，其中，所述保持器包括多個凹槽以使得調節裝置能夠接合所述保持器以相對所述閥座移動所述保持器；

密封件，其具有第一側、第二側、第三側和第四側，其中，所述第一側、所述第二側和所述第三側與所述閥座組件接觸，所述第四側用于與所述閥體接觸；并且

所述保持器相對所述閥座的移動壓縮處于所述閥座和所述保持器之間且處于所述閥座組件和所述閥體之間的所述密封件，以形成流體密封來防止所述閥體和所述閥座組件之間的流體流動。

2.根據權利要求1所述的閥座組件，其特征在于，所述密封件包括由石墨構成的第一部分。

3.根據權利要求1所述的閥座組件，其特征在于，所述密封件包括護罩。

4.根據權利要求1所述的閥座組件，其特征在于，所述密封件設置在由所述閥座限定的凹槽中。

5.根據權利要求1所述的閥座組件，其特征在于，還包括所述閥體，所述閥體限定錐形表面，以接觸所述第四側來壓縮所述密封件。

6.根據權利要求1所述的閥座組件，其特征在于，所述密封件用于具有在-350華氏度和1200華氏度之間的溫度的過程流體。

7.一種閥裝置，其特征在于，包括：

閥座組件，其包括閥籠、耦接到所述閥籠的閥座以及保持器，所述保持器耦接到所述閥座且相對于所述閥座能夠移動，其中，所述保持器包括多個凹槽以使得調節裝置能夠接合所述保持器以相對所述閥座移動所述保持器；

密封件，其被壓縮在所述閥座和所述保持器之間，以及

閥體，其容納所述閥座組件，其中，所述密封件被壓縮在所述閥座和所述保持器之間并被壓縮在所述閥座組件和所述閥體之間以形成流體密封以防止所述閥體和所述閥座組件之間的流體流動。

8.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述閥座包括第一螺紋，所述保持器包括與所述第一螺紋相配合的第二螺紋。

9.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述閥座包括第一螺紋，以及所述閥籠包括與所述第一螺紋配合的第二螺紋。

10.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述閥座通過所述閥籠懸置于所述閥體中。

11.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述閥體限定錐形表面，所述密封件被壓縮在所述錐形表面和所述閥座組件之間。

12.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，當所述閥座組件設置在所述閥體中時，所述閥座的位置相對于所述保持器的位置是可調節的。

13.根據權利要求7所述的裝置，其特征在于，所述密封件用于具有在-350華氏度和1200華氏度之間的溫度的過程流體。

14.一種安裝閥的方法，其特征在于，包括：

將密封件壓縮在閥座組件的第一表面和第二表面之間，所述閥座組件包括閥座、耦接到所述閥座的閥籠以及耦接到所述閥座的保持器，所述保持器包括多個凹槽以使得調節裝置能夠接合所述保持器以相對所述閥座移動所述保持器；以及

將所述密封件壓縮在閥體的第三表面和所述閥座組件的第四表面之間。

15.根據權利要求14所述的方法，其特征在于，將所述密封件壓縮在所述閥座組件的所述第一表面和所述第二表面之間包括相對于所述閥座移動所述保持器。

16.根據權利要求15所述的方法，其特征在于，移動所述保持器包括將所述調節裝置設置于所述閥體中并將所述調節裝置可操作地耦接于所述保持器。

17.根據權利要求14所述的方法，其特征在于，所述第三表面是錐形的，其中，將所述密封件壓縮在所述閥體的所述第三表面和所述閥座組件的所述第四表面之間包括將所述閥座組件降低到所述閥體中并沿著所述閥體的所述第三表面的一部分接觸所述密封件。