[發(fā)明專利]插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410087810.5 | 申請日: | 2014-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN103811610A | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭恩卿;伊?xí)匝?/a>;劉志強;陳宇;王軍喜;李晉閩 | 申請(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號: | H01L33/14 | 分類號: | H01L33/14;H01L33/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 任巖 |
| 地址: | 100083 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 插入 電流 結(jié)構(gòu) 發(fā)光 器件 及其 制造 方法 | ||
1.一種插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,包括:
第一電極層;
在所述第一電極層上的p型簡并半導(dǎo)體層;
在所述p型簡并半導(dǎo)體層上的n型簡并半導(dǎo)體層;
在所述n型簡并半導(dǎo)體層上的p型半導(dǎo)體層;
在所述p型半導(dǎo)體層上的有源層;
在所述有源層上的n型半導(dǎo)體層;以及
在所述n型半導(dǎo)體層上的第二電極層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述p型簡并半導(dǎo)體層與所述n型簡并半導(dǎo)體層在界面處形成第一隧穿pn結(jié)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述第一隧穿pn結(jié)在所述發(fā)光器件開啟時處于正向偏置狀態(tài)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述n型簡并半導(dǎo)體層與所述p型半導(dǎo)體層在界面處形成第二隧穿pn結(jié)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述第二隧穿pn結(jié)在所述發(fā)光器件開啟時處于反向偏置狀態(tài)。
6.一種插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,包括:
第一電極層;
在所述第一電極層上的n型簡并半導(dǎo)體層;
在所述n型簡并半導(dǎo)體層上的p型簡并半導(dǎo)體層;
在所述p型簡并半導(dǎo)體層上的n型半導(dǎo)體層;
在所述n型半導(dǎo)體層上的有源層;
在所述有源層上的p型半導(dǎo)體層;以及
在所述p型半導(dǎo)體層上的第二電極層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述n型簡并半導(dǎo)體層與所述p型簡并半導(dǎo)體層在界面處形成第一隧穿pn結(jié)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述第一隧穿pn結(jié)在所述發(fā)光器件開啟時處于正向偏置狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述p型簡并半導(dǎo)體層與所述n型半導(dǎo)體層在界面處形成第二隧穿pn結(jié)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件,其中所述第二隧穿pn結(jié)在所述發(fā)光器件開啟時處于反向偏置狀態(tài)。
11.一種插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件的制造方法,包括:
取一n型半導(dǎo)體,在n型半導(dǎo)體下表面形成第一電極層;
在所述的n型半導(dǎo)體上表面形成n型簡并半導(dǎo)體層;
在所述的n型簡并半導(dǎo)體層上形成p型簡并半導(dǎo)體層;
在所述的p型簡并半導(dǎo)體層上形成n型半導(dǎo)體層;
在所述的n型半導(dǎo)體層上形成有源層;
在所述的有源層上形成p型半導(dǎo)體層;
在所述的p型半導(dǎo)體層上形成第二電極層。
12.一種插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件的制造方法,包括:
在襯底上依次形成n型半導(dǎo)體層、有源層、第二簡并p型半導(dǎo)體、簡并n型半導(dǎo)體和第一簡并p型半導(dǎo)體;
在第一簡并p型半導(dǎo)體上形成第一電極層;
移除襯底,并將外延片旋轉(zhuǎn)180度進行襯底轉(zhuǎn)移;以及
在n型半導(dǎo)體層上形成第二電極層。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件的制造方法,其中襯底是由Si、SiC、GaAs、InP、藍寶石(Al2O3)、ZnO、MgO和金剛石中的至少一種形成,有源層是單量子阱結(jié)構(gòu)或多量子阱結(jié)構(gòu)。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件的制造方法,其中第一電極層同時起到導(dǎo)電、支撐襯底的作用,由鎳(Ni)、銀(Ag)、鉑(Pt)、金(Au)、鉻(Cr)、銅(Cu)、鈦(Ti)、鋁(Al)、鎢(W)中的至少一種形成。
15.一種插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件的制造方法,包括:
在襯底上依次形成n型半導(dǎo)體層、有源層、第二簡并p型半導(dǎo)體、簡并n型半導(dǎo)體和第一簡并p型半導(dǎo)體;
在第一簡并p型半導(dǎo)體上形成第一電極層;以及
在襯底背面形成第二電極層。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的插入勻化電流結(jié)構(gòu)的發(fā)光器件的制造方法,其中襯底是能傳導(dǎo)電流的,有源層是單量子阱結(jié)構(gòu)或多量子阱結(jié)構(gòu)。
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