[發(fā)明專利]基板處理裝置及方法、基板把持機(jī)構(gòu)以及基板把持方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410084660.2 | 申請日: | 2009-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN103839857B | 公開(公告)日: | 2017-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 宮崎充;勝岡誠司;松田尚起;國澤淳次;小林賢一;外崎宏;筱崎弘行;鍋谷治;森澤伸哉;小川貴弘;牧野夏木 | 申請(專利權(quán))人: | 株式會社荏原制作所 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司72002 | 代理人: | 胡建新,樸勇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 處理 裝置 方法 把持 機(jī)構(gòu) 以及 | ||
1.一種基板處理裝置,其特征在于,具有:
研磨部,具有用于保持基板且將該基板向研磨面推壓而對基板進(jìn)行研磨的能夠上下移動的頂圈;
搬運(yùn)機(jī)構(gòu),具有能夠進(jìn)行所述頂圈和基板的交接且能夠上下移動的搬運(yùn)臺;以及
擋圈固定器,配置在所述頂圈和所述搬運(yùn)臺之間,用于放置頂圈,
所述頂圈具有頂圈主體以及相對于該頂圈主體能夠相對地上下移動的擋圈,
所述擋圈固定器具有上推所述擋圈的多個上推機(jī)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,所述上推機(jī)構(gòu)包括:與所述擋圈接觸的上推銷;以及向上方推壓該上推銷的彈簧。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置,其特征在于,所述擋圈固定器具有磨損測定器,該磨損測定器在所述上推機(jī)構(gòu)上推所述擋圈的期間內(nèi)測定所述擋圈的磨損量。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基板處理裝置,其特征在于,所述磨損測定器具備:
接觸構(gòu)件,與所述擋圈的下表面接觸;
彈簧,向上方推壓所述接觸構(gòu)件;
直動式引導(dǎo)構(gòu)件,將所述接觸構(gòu)件支撐為能夠在上下方向上移動;以及
位移測定器,測定所述接觸構(gòu)件的位移。
5.一種擋圈固定器,其特征在于,
所述擋圈固定器用于放置頂圈,該頂圈用于保持基板,并且將該基板向研磨面推壓而對基板進(jìn)行研磨,
所述頂圈具有頂圈主體以及相對于該頂圈主體能夠相對地上下移動的擋圈,
所述擋圈固定器具有上推所述擋圈的多個上推機(jī)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的擋圈固定器,其特征在于,所述上推機(jī)構(gòu)包括:與所述擋圈接觸的上推銷;以及向上方推壓該上推銷的彈簧。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的擋圈固定器,其特征在于,所述上推機(jī)構(gòu)具有磨損測定器,該磨損測定器在上推所述擋圈的期間內(nèi)測定所述擋圈的磨損量。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的擋圈固定器,其特征在于,所述磨損測定器具備:
接觸構(gòu)件,與所述擋圈的下表面接觸;
彈簧,向上方推壓所述接觸構(gòu)件;
直動式引導(dǎo)構(gòu)件,將所述接觸構(gòu)件支撐為能夠在上下方向上移動;以及
位移測定器,測定所述接觸構(gòu)件的位移。
9.一種基板處理方法,其特征在于,包括如下工序:
使頂圈移動至基板的搬運(yùn)位置,
通過搬運(yùn)臺將基板搬運(yùn)至所述搬運(yùn)位置,
通過使所述頂圈下降并使該頂圈的擋圈與上推機(jī)構(gòu)接觸,用所述上推機(jī)構(gòu)來上推所述擋圈,
一邊使所述頂圈下降,一邊使所述搬運(yùn)臺上升,
將基板從所述搬運(yùn)臺交給所述頂圈,
使基板從所述搬運(yùn)位置移動至研磨位置,
對基板進(jìn)行研磨。
10.一種基板把持機(jī)構(gòu),其特征在于,具備:
基臺;
基板支撐構(gòu)件,支撐在所述基臺上,能夠相對于該基臺在上下方向上相對移動;
基板把持部,分別設(shè)置在所述基板支撐構(gòu)件的上端;
驅(qū)動機(jī)構(gòu),使所述基板支撐構(gòu)件上下移動;
推壓機(jī)構(gòu),與所述基板支撐構(gòu)件的下降連動,向基板推壓至少1個所述基板支撐構(gòu)件上的所述基板把持部,與所述基板支撐構(gòu)件的上升連動,使所述基板把持部離開基板。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板把持機(jī)構(gòu),其特征在于,所述推壓機(jī)構(gòu)是與所述基板支撐構(gòu)件的上下移動連動,使所述至少1個基板支撐構(gòu)件繞其軸心旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的基板把持機(jī)構(gòu),其特征在于,所述基板把持部是相對于所述基板支撐構(gòu)件的軸心偏心地配置的圓筒狀的夾緊構(gòu)件。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的基板把持機(jī)構(gòu),其特征在于,
所述推壓機(jī)構(gòu)具備:
第1磁鐵,安裝在所述至少1個所述基板支撐構(gòu)件以及所述基臺中的某一個上,
第2磁鐵,安裝在所述至少1個所述基板支撐構(gòu)件以及所述基臺中的另一個上,
隨著所述基板支撐構(gòu)件的上下移動,所述第1磁鐵的位置變?yōu)榕c所述第2磁鐵接近的位置,
在所述第1磁鐵和所述第2磁鐵接近時,通過在所述第1磁鐵和所述第2磁鐵之間產(chǎn)生的磁力,使所述基板支撐構(gòu)件向使得所述基板把持部推壓基板的周邊部的方向移動。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





