[發明專利]一種帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元及反應器

有效

• 申請號: 201410083751.4
• 申請日: 2014-03-07
• 公開（公告）號: CN103861435A
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 姚水良;牛東暉
• 申請（專利權）人: 姚水良
• 主分類號: B01D53/32
• 分類號: B01D53/32;B01D53/94
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務所 32237
• 代理人: 朱慶華

1.一種帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，包括第一導線、第二導線、第一介質層、第二介質層及相互平行的第一電極和第二電極；

所述第一導線和第二導線分別與所述第一電極頂端和第二電極底端電氣連接；

所述第一介質層和第二介質層均位于所述第一電極和第二電極之間并分別與所述第一電極底端和第二電極頂端相連，且所述第一介質層和第二介質層之間形成至少一個放電空間；所述放電空間設有至少一個氣體進口和至少一個氣體出口；

所述第一介質層和第二介質層上分別設有多個第一氣孔和多個第二氣孔；所述第一氣孔在第一介質層表面長度方向上的截面積和第二氣孔在第二介質層表面長度方向上的截面積均為（0.0001，10）mm²，且多個第一氣孔在第一介質層表面長度方向上的截面積總和與多個第二氣孔在第二介質層表面長度方向上的截面積總和分別占第一介質層和第二介質層總表面積的（0.00001%，10%）。

2.根據權利要求1所述的帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，所述第一氣孔和第二氣孔之間的最短距離L≥10mm。

3.根據權利要求2所述的帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，所述第一氣孔為通孔、盲孔或埋孔。

4.根據權利要求2所述的帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，所述第二氣孔為通孔、盲孔或埋孔。

5.根據權利要求1所述的帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，所述第一介質層的氣體接觸面或第二介質層的氣體接觸面上設有催化劑層。

6.根據權利要求1所述的帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，所述第一介質層和第二介質層之間的距離d為（0.1，100）mm。

7.根據權利要求6所述的帶孔介質阻擋等離子體放電基本單元，其特征在于，所述第一介質層或第二介質層的材質是金屬氧化物、金屬氧化物以外的無機材料、有機材料或它們的復合物；所述金屬氧化物為氧化鋁、氧化鈦、氧化鋅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻、氧化鎳或氧化鎂，所述金屬氧化物以外的無機材料為氧化硅或玻璃，且所述有機材料為塑料或橡膠。

8.一種采用權利要求1-7任意一項所述放電基本單元的帶孔介質阻擋等離子體反應器，其特征在于，包括反應器外殼、高壓電源以及至少兩個所述放電基本單元；所述各個放電基本單元置于所述反應器外殼內部，且各個放電基本單元的電源輸入端均與所述高壓電源連接。

9.根據權利要求8所述的帶孔介質阻擋等離子體反應器，其特征在于，所述各個放電基本單元之間并聯或串聯且一并置于所述反應器外殼內部。