[發(fā)明專利]薄膜太陽能電池及其制造方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410082857.2 | 申請(qǐng)日: | 2014-03-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104051569B | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃乾燿;邱永升;李文欽 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/0445;H01L31/0749 |
| 代理公司: | 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11409 | 代理人: | 章社杲,孫征 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 臺(tái)灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 薄膜 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
1.一種用于制造器件的吸收層的方法,所述方法包括以下步驟:
(a)提供包括位于襯底上的前體膜和金屬背電極層的對(duì)象;
(b)在第一溫度“T1”下對(duì)所述對(duì)象實(shí)施持續(xù)第一時(shí)間段“Δt1”的第一工藝,0分鐘<Δt1≤300分鐘;
(c)在第二溫度“T2”下對(duì)所述對(duì)象實(shí)施持續(xù)第二時(shí)間段“Δt2”的第二工藝,其中,所述第二工藝包括將所述對(duì)象保持在惰性氣體環(huán)境中,并且其中,T1≤T2,0分鐘<Δt2≤300分鐘;以及
(d)在第三溫度“T3”下對(duì)所述對(duì)象實(shí)施持續(xù)第三時(shí)間段“Δt3”的第三工藝,0分鐘<Δt3≤300分鐘。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述器件是薄膜太陽能電池。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述前體膜是金屬前體。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法,其中,所述金屬前體包括選自由銅、鎵、銦、硒、硫和它們的合金組成的組中的材料。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述前體膜是CIS基半導(dǎo)體。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所述CIS基半導(dǎo)體包括五元Cu-III-VI2族黃銅礦半導(dǎo)體。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法,其中,所述CIS基半導(dǎo)體包括選自由CuInSe2、CuGaSe2、Cu(InGa)Se2、CuInS2、CuGaS2、Cu(InGa)S2、CuIn(Se,S)2、CuGa(Se,S)2、Cu(InGa)(Se,S)2和它們的組合組成的組中的材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述第一工藝包括將所述對(duì)象保持在包含硒源的氣體環(huán)境中,并且其中,200℃≤T1≤800℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法,其中,所述硒源是硒化氫。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,在所述步驟(c)中,200℃≤T2≤800℃。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法,其中,所述惰性氣體是氮?dú)饣驓鍤狻?/p>
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中,所述第三工藝包括將所述對(duì)象保持在包含硫源的氣體環(huán)境中,并且其中,200℃≤T3≤600℃,并且其中,T3≤T2。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法,其中,所述硫源是硫化氫。
14.一種用于制造器件的吸收層的方法,所述方法包括以下步驟:
(a)提供包括前體的對(duì)象;
(b)在第一溫度“T1”下,在惰性氣體環(huán)境中將所述對(duì)象保持第一時(shí)間段“Δt1”,其中,200℃≤T1≤800℃且0分鐘<Δt1≤300分鐘;以及
(c)在第二溫度“T2”下,在包含硫源的氣體環(huán)境中將所述對(duì)象保持第二時(shí)間段“Δt2”,其中,200℃≤T2≤600℃且0分鐘<Δt2≤300分鐘,并且其中,T2≤T1。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中,所述器件是薄膜太陽能電池,并且其中,所述前體是CIS基半導(dǎo)體或包括硒和/或硫的金屬前體。
16.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法,其中,所述器件是薄膜太陽能電池。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司,未經(jīng)臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410082857.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:半導(dǎo)體納米線有序陣列分布的制備方法
- 下一篇:制造光伏器件的方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
- 氫燃料制造系統(tǒng)、氫燃料制造方法以及氫燃料制造程序
- 單元控制系統(tǒng)、生產(chǎn)系統(tǒng)以及控制方法
- 制造裝置及制造方法以及制造系統(tǒng)
- 一種三相異步電動(dòng)機(jī)制造工藝方法
- 制造設(shè)備、制造裝置和制造方法
- 用于監(jiān)測(cè)光學(xué)鏡片制造過程的方法
- 產(chǎn)品的制造系統(tǒng)、惡意軟件檢測(cè)系統(tǒng)、產(chǎn)品的制造方法以及惡意軟件檢測(cè)方法
- 一種面向制造服務(wù)的制造能力評(píng)估方法
- 一種基于云制造資源的制造能力建模方法
- 制造設(shè)備系統(tǒng)、制造設(shè)備以及制造方法





