[發(fā)明專(zhuān)利]一種腔室

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410079630.2
• 申請(qǐng)日: 2014-03-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104889111B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李偉
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B08B7/00
• 分類(lèi)號(hào): B08B7/00
• 代理公司: 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td>

本發(fā)明提供一種腔室，所述腔室內(nèi)部設(shè)置有噴淋件，所述噴淋件上設(shè)置有貫穿所述噴淋件的噴淋孔，所述噴淋件包括第一噴淋件和第二噴淋件，所述第一噴淋件上設(shè)置有多個(gè)第一通孔，所述第二噴淋件上設(shè)置有多個(gè)第二通孔，所述第一噴淋件和所述第二噴淋件上下重疊使所述第一通孔和所述第二通孔連通以形成所述噴淋孔。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明可以較為簡(jiǎn)便地加工第一噴淋件和第二噴淋件，顯著簡(jiǎn)化了加工復(fù)雜度。同時(shí)，本發(fā)明能夠通過(guò)調(diào)整第一噴淋件和第二噴淋件的相對(duì)位置以調(diào)節(jié)噴淋孔的面積和孔徑，能夠便捷地實(shí)現(xiàn)更多的工藝需求。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域，尤其涉及一種腔室。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，對(duì)晶圓進(jìn)行氣相沉積之前，需要對(duì)晶圓進(jìn)行預(yù)清洗，以去除晶圓表面的雜質(zhì)，這一操作通常在預(yù)清洗腔室中完成?，F(xiàn)有的預(yù)清洗方法通常是將氣體（如氬氣、氦氣、氫氣等）激發(fā)為等離子體后，利用等離子體轟擊晶圓，以去除晶圓表面的雜質(zhì)。

現(xiàn)有的預(yù)清洗腔室的結(jié)構(gòu)如圖1所示。腔室1的頂部設(shè)置有拱形頂蓋2，且拱形頂蓋2上設(shè)置有線(xiàn)圈3，射頻電源5通過(guò)射頻匹配器4將射頻功率加至線(xiàn)圈3上，以將腔室中的氣體激發(fā)為等離子體，同時(shí)，射頻電源8通過(guò)射頻匹配器7將射頻功率加至基座6上，以在基座6上產(chǎn)生射頻自偏壓，以吸引等離子體來(lái)轟擊基座6上的晶圓，然而，等離子體中的離子在轟擊晶圓時(shí)較容易進(jìn)入介電常數(shù)較低的材料中，可能會(huì)造成晶圓上部分材料的劣化，因此，為了避免等離子體中的離子參與清洗過(guò)程，在腔室1的內(nèi)壁上部設(shè)置有噴淋件9，該噴淋件9的結(jié)構(gòu)如圖2所示，噴淋件9呈圓盤(pán)形，能夠完全覆蓋腔室1的橫截面，且噴淋件9上設(shè)置有噴淋孔91，噴淋孔91的孔徑通常為0.2mm～10mm，小于等離子體穿過(guò)其中時(shí)所形成的等離子體鞘層的厚度，因此，使得等離子體中的離子受等離子體鞘層的作用難以穿過(guò)噴淋孔91，而等離子體中的自由基、原子和分子能夠順利穿過(guò)噴淋孔91。

該現(xiàn)有的噴淋件需要在其上加工非常多的噴淋孔，加工難度大，而且，如果需要更改噴淋件的孔隙率或者調(diào)節(jié)噴淋孔的面積時(shí)，則只能重新加工新的噴淋件，造成成本高且加工周期長(zhǎng)的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

有鑒于此，本發(fā)明的目的在于提供一種腔室，以降低噴淋件的加工難度和成本。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種腔室，所述腔室內(nèi)部設(shè)置有噴淋件，所述噴淋件上設(shè)置有貫穿所述噴淋件的噴淋孔，所述噴淋件包括第一噴淋件和第二噴淋件，所述第一噴淋件上設(shè)置有多個(gè)第一通孔，所述第二噴淋件上設(shè)置有多個(gè)第二通孔，所述第一噴淋件和所述第二噴淋件上下重疊使所述第一通孔和所述第二通孔連通以形成所述噴淋孔。

優(yōu)選地，所述第一噴淋件上設(shè)置有第一連接孔，所述第二噴淋件上設(shè)置有第二連接孔，所述第一噴淋件和所述第二噴淋件通過(guò)所述第一連接孔和第二連接孔上下連接。

優(yōu)選地，所述第一連接孔和所述第二連接孔均為多個(gè)，每個(gè)所述第一連接孔均能夠與多個(gè)所述第二連接孔相匹配，使得所述第一噴淋件和所述第二噴淋件能夠調(diào)整相對(duì)位置，以調(diào)節(jié)所述噴淋孔的面積。

優(yōu)選地，所述噴淋件還包括卡合件，所述卡合件設(shè)置在所述第一噴淋件和所述第二噴淋件的邊緣，能夠固定所述第一噴淋件和所述第二噴淋件的相對(duì)位置。

優(yōu)選地，所述第一通孔和所述第二通孔為矩形通孔。

優(yōu)選地，所述矩形通孔的寬度為0.2mm～7mm。

優(yōu)選地，多個(gè)所述第一通孔以預(yù)定間距平行地設(shè)置在所述第一噴淋件上；和/或多個(gè)所述第二通孔以預(yù)定間距平行地設(shè)置在所述第二噴淋件上。

優(yōu)選地，所述第一噴淋件和所述第二噴淋件由絕緣材料制成。

優(yōu)選地，所述第一噴淋件和第二噴淋件的總厚度為2mm～50mm。

優(yōu)選地，所述噴淋孔的孔徑小于10mm。