[發明專利]觸摸屏及其制備方法有效
| 申請號： | 201410079325.3 | 申請日： | 2014-03-05 |
| 公開（公告）號： | CN103885633B | 公開（公告）日： | 2017-12-01 |
| 發明（設計）人： | 張迅;王海濤;向程;易偉華 | 申請（專利權）人： | 江西沃格光電股份有限公司 |
| 主分類號： | G06F3/041 | 分類號： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224 | 代理人： | 吳平 |
| 地址： | 338004 江西省新余*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 觸摸屏 及其 制備 方法 | ||
1.一種觸摸屏，包括玻璃基板，其特征在于，還包括依次層疊于所述玻璃基板上的增硬膜和防護膜，所述增硬膜的材料包括氧化鋁和氧化釹，所述防護膜的材料為氟化鈣；
所述增硬膜的厚度為
所述增硬膜與所述玻璃基板直接接觸；
所述觸摸屏的可見光透過率大于或等于95％；
所述增硬膜通過使用釹鋁合金靶材濺射制備。
2.根據權利要求1所述的觸摸屏，其特征在于，所述防護膜的厚度為
3.一種觸摸屏的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
提供玻璃基板；
以釹鋁合金靶材作為濺射靶材，采用磁控濺射在所述玻璃基板的表面上制備增硬膜，所述增硬膜的材料包括氧化鋁和氧化釹-；及
采用磁控濺射在所述增硬膜的表面上制備防護膜，得到所述觸摸屏，其中，所述防護膜的材料為氟化鈣；
所述增硬膜的厚度為
所述增硬膜與所述玻璃基板直接接觸；
所述觸摸屏的可見光透過率大于或等于95％。
4.根據權利要求3所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板的表面上制備增硬膜及采用磁控濺射在所述增硬膜的表面上制備防護膜的步驟中，所述玻璃基板的溫度為120℃～200℃。
5.根據權利要求3所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板的表面上制備增硬膜及采用磁控濺射在所述增硬膜的表面上制備防護膜的步驟中，鍍膜室的真空度為2.5×10-1Pa～3.50×10-1Pa。
6.根據權利要求3所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板的表面上制備增硬膜及采用磁控濺射在所述增硬膜的表面上制備防護膜的步驟中，所述玻璃基板與靶材的距離為15mm～25mm。
7.根據權利要求3所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板的表面上制備增硬膜及采用磁控濺射在所述增硬膜的表面上制備防護膜的步驟中，所述玻璃基板的運行速度為25mm/s～40mm/s。
8.根據權利要求3所述的觸摸屏的制備方法，其特征在于，所述采用磁控濺射在所述玻璃基板的表面上制備增硬膜的步驟之前，還包括對所述玻璃基板進行減薄的步驟。
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