[發明專利]鍍膜不銹鋼板的表面等離子體氧化處理方法及鍍膜不銹鋼雙極板

無效

• 申請號: 201410077076.4
• 申請日: 2014-03-04
• 公開（公告）號: CN103834913A
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 吳博;侯中軍;付宇;明平文
• 申請（專利權）人: 新源動力股份有限公司
• 主分類號: C23C8/38
• 分類號: C23C8/38;H01M4/88
• 代理公司: 大連東方專利代理有限責任公司 21212
• 代理人: 賈漢生;李馨

1.一種鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，包括以下步驟：

（1）將鍍膜不銹鋼板置于反應室內，抽真空至反應室內真空度小于5×10^-3Pa；

（2）向反應室內通入氧氣至反應室內壓力達到0.8-2Pa；

（3）向鍍膜不銹鋼板施加700-900V偏壓使氧氣離化形成等離子體，等離子體對鍍膜不銹鋼板表面轟擊處理15-30分鐘，使鍍膜不銹鋼板表面形成富氧表層。

2.根據權利要求1所述鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，所述鍍膜不銹鋼板為采用物理氣相沉積法制備的鍍膜不銹鋼板。

3.根據權利要求2所述鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，所述鍍膜不銹鋼板為表面含金屬碳基薄膜的不銹鋼板。

4.根據權利要求1所述鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，步驟（1）中抽真空至反應室內真空度小于8×10^-3Pa。

5.根據權利要求1所述鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，步驟（2）中反應室內壓強達到1.5-2Pa。

6.根據權利要求1所述鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，步驟（3）中向鍍膜不銹鋼板施加750-850V偏壓使氧氣離化形成等離子體。

7.根據權利要求1所述鍍膜不銹鋼的表面等離子體氧化處理方法，其特征在于，步驟（3）中等離子體對鍍膜不銹鋼板表面轟擊處理18-25分鐘。

8.一種鍍膜不銹鋼雙極板，其特征在于，由權利要求1-7任意一項所述方法處理而成。