[發明專利]一種光隔離器無效
| 申請號: | 201410076649.1 | 申請日: | 2014-03-04 |
| 公開(公告)號: | CN103852825A | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發明(設計)人: | 賈玉昌;王世武;薛學剛;聶奕 | 申請(專利權)人: | 青島海泰光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02B6/26 | 分類號: | G02B6/26;G02F1/09 |
| 代理公司: | 北京聯瑞聯豐知識產權代理事務所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 鄭自群 |
| 地址: | 266101 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 隔離器 | ||
技術領域
本發明涉及光隔離器領域,特別是指一種光隔離器。
背景技術
在激光系統中,由于光路中的光學元件對光源的反射作用,往往會使系統產生不良影響。為了解決這一難題,可以考慮放入一允許單向光通過的光無源器件。基于磁光晶體法拉第效應的工作原理,在系統光路中加入光隔離器,可以有效消除反射光對系統地損傷。
光隔離器具有正向插入損耗低,反向隔離度高,回波損耗高,允許光向一個方向通過而阻止反射光通過等特性,可廣泛用于光纖激光器、光參量振蕩激光器、多級放大激光器、全固態倍頻激光器等,各種半導體固態激光器中,當前已有多種設計的光隔離器,但尚沒有用于寬波段的光隔離器。
發明內容
本發明提出一種光隔離器,解決了現有技術中光隔離器只能用于隔離窄波段的問題。
本發明的技術方案是這樣實現的:一種光隔離器,包括第一膠合棱鏡、磁光晶體、半波片、第二膠合棱鏡、設有空腔的腔體;所述空腔的中心軸即為光軸;所述第一膠合棱鏡、磁光晶體、半波片、第二膠合棱鏡沿光路方向依次設置于所述空腔內的中心軸上。
作為優選的技術方案,所述第一膠合棱鏡由第一棱鏡、與所述第一棱鏡膠合固定的第二棱鏡構成;所述第一棱鏡與所述第二棱鏡相向的端面為第一膠合面,所述第一膠合面與光軸成45°夾角,且所述第一膠合面上鍍有第一光學薄膜;與所述第一膠合面平行設置的第二棱鏡底端面上設有第二光學薄膜;所述第一棱鏡頂端面與光軸平行。
作為優選的技術方案,所述第一光學薄膜對p光透射且對s光反射,透射系數大于或等于98%@45°,反射系數大于或等于99.8%@45°;所述第二光學薄膜對p光和s光均反射,反射系數大于或等于99.8%@45°。
作為優選的技術方案,所述第二膠合棱鏡由第三棱鏡、與所述第三棱鏡膠合固定的第四棱鏡構成;所述第三棱鏡與所述第四棱鏡相向的端面為第二膠合面,所述第二膠合面與光軸成45°夾角,所述第二膠合面上鍍有第三光學薄膜;與所述第二膠合面平行設置的第三棱鏡頂端面上鍍有第四光學薄膜;所述第四棱鏡底端面平行于光軸;所述第二膠合面與所述第四棱鏡底端面的夾角為45°。
作為優選的技術方案,所述第三光學薄膜對p光透射且對s光反射,透射系數大于或等于98%@45°,反射系數大于或等于99.8%@45°;所述第四光學薄膜對p光和s光均反射,反射系數大于或等于99.8%@45°。
作為優選的技術方案,所述半波片光軸與豎直方向的夾角為22.5°;沿光軸順時針方向上,所述半波片對p光的光旋轉角為45°,對s光的光旋轉角為225°。
作為優選的技術方案,所述第一棱鏡頂端面平行于所述第四棱鏡底端面。
本發明同背景技術相比所產生的有益效果:
光隔離器中引入膠合棱鏡和波片用于對自然光的偏振方向分離設計,且膠合棱鏡中鍍有光學薄膜,可以實現對自然光的良好的隔離效果。
附圖說明
為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動性的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發明一種光隔離器的結構示意圖;
圖2為第一膠合棱鏡的左視示意圖;
圖3為第二膠合棱鏡的左視示意圖;
圖4為光在各元器件中偏振變化示意圖。
圖中:L1-第一膠合棱鏡;L2-第二膠合棱鏡;C-磁光晶體;B-半波片;L11-第一棱鏡;L12-第二棱鏡;L21-第三棱鏡;L22-第四棱鏡;S11-第二棱鏡前端面;S12-第二棱鏡后端面;S13-第一棱鏡后端面;S14-第一棱鏡頂端面;S21-第三棱鏡前端面;S22-第四棱鏡前端面;S23-第三棱鏡后端面;S24-第四棱鏡底端面;F11-第一光學薄膜;F12-第二光學薄膜;F21-第三光學薄膜;F22-第四光學薄膜。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發明保護的范圍。
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