[發(fā)明專利]基于表面等離子共振的光纖多點(diǎn)微位移傳感方法及裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410076375.6 | 申請日: | 2014-03-03 |
| 公開(公告)號: | CN103868457A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 趙春柳;楊江;王小明;金尚忠 | 申請(專利權(quán))人: | 中國計(jì)量學(xué)院 |
| 主分類號: | G01B11/02 | 分類號: | G01B11/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 310018 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 表面 等離子 共振 光纖 多點(diǎn) 位移 傳感 方法 裝置 | ||
1.基于表面等離子共振的光纖多點(diǎn)微位移傳感方法,其特征在于該方法包括如下步驟:
步驟(1)選擇一個輸出波長為480nm至560nm的寬帶光源,一個工作波長覆蓋480nm至560nm的光譜儀,兩根單模傳輸光纖,一個偏振器,一根單模傳感光纖,多個位移探針。
步驟(2)寬帶光源發(fā)出的信號光,經(jīng)過傳輸光纖,通過偏振器進(jìn)行起偏,得到線偏振模式的入射光,進(jìn)入傳感光纖。
步驟(3)傳感光纖的制作,是將一根普通的單模光纖在同一實(shí)驗(yàn)條件下,在多個區(qū)域,進(jìn)行相同的腐蝕處理,得到多個腐蝕至纖芯的區(qū)域,作為產(chǎn)生表面等離子共振的敏感區(qū)。由于光纖的全內(nèi)反射工作原理,線偏振模式的入射光在纖芯與周圍空氣的界面上會產(chǎn)生一個倏逝波場。入射光的傳播常數(shù)為
其中ω是入射光的圓頻率,c是真空中光的傳播速度,n是光纖纖芯的折射率。
步驟(4)位移探針的制作,是在單模光纖經(jīng)切平處理的端面,鍍上厚度為納米級的金屬薄膜。金屬內(nèi)部及表面自由電子會產(chǎn)生自發(fā)性群體振蕩,在金屬表面自由電子的振蕩模式是
所產(chǎn)生的表面等離子波的傳播常數(shù)是
其中ε是金屬復(fù)折射率的實(shí)部。入射光在纖芯表面產(chǎn)生的倏逝波場會與金屬薄膜的表面等離子波,在滿足傳播常數(shù)相等的條件下,即
kin=kspw,
產(chǎn)生表面等離子共振現(xiàn)象。由于光纖纖芯與位移探針表面的金屬膜之間存在著空氣腔,會導(dǎo)致諧振波長的強(qiáng)度根據(jù)空氣腔的長度發(fā)生改變,因此實(shí)現(xiàn)了光纖與位移探針之間的微位移測量。
步驟(5)在制作位移探針時,通過在單模光纖端面鍍不同厚度的金屬膜,可以得到多個以諧振波長不同的位移探針,從而實(shí)現(xiàn)同時對傳感光纖多個敏感區(qū)微位移變化的測量,并且在頻譜上得到不同諧振波長的強(qiáng)度變化,實(shí)現(xiàn)多點(diǎn)微位移測量的復(fù)用。
2.實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述方法的裝置,其特征在于包括一個寬帶光源,兩根單模傳輸光纖,一個偏振器,一根單模傳感光纖,多個位移探針,多個敏感區(qū),一個光譜儀;所述寬帶光源經(jīng)傳輸光纖與偏振器連接;所述傳感光纖經(jīng)耦合器與傳輸光纖連接;所述敏感區(qū)是在傳感光纖的多個區(qū)域上通過腐蝕處理,去除光纖包層,將纖芯裸露在外制作;所述位移探針是在多個經(jīng)端面切平處理的單模光纖端面分別鍍上均勻且厚度不同的金膜制作;所述空氣腔是指位移探針與傳感光纖敏感區(qū)之間幾十納米寬的空氣帶隙。
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