[發(fā)明專利]一種控制方法及電子設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410075129.9
• 申請日: 2014-03-03
• 公開（公告）號: CN103793061B
• 公開（公告）日: 2017-01-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張士鵬;張嶸;吳江平;姚娟娟
• 申請（專利權(quán)）人: 聯(lián)想（北京）有限公司
• 主分類號: G06F3/01
• 分類號: G06F3/01
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227
• 代理人: 王寶筠

1.一種控制方法，其特征在于，應(yīng)用于電子設(shè)備，所述電子設(shè)備包括投影模塊，所述投影模塊能夠在第一平面的第一區(qū)域投射第一虛擬輸入界面，所述電子設(shè)備還包括監(jiān)測模塊，所述監(jiān)測模塊用來監(jiān)測用戶操作體，所述方法包括：

利用所述監(jiān)測模塊獲取所述用戶操作體的操作位置；

控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域與所述操作位置相一致，且所述第二區(qū)域與所述第一區(qū)域不同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，包括：

獲取所述操作位置與所述投影模塊之間的第一距離值；

依據(jù)所述第一距離值，獲取所述投影模塊的投射變動角度；

調(diào)整所述投影模塊轉(zhuǎn)動所述投射變動角度；

控制所述投影模塊以當(dāng)前投射角度將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的中心位置與所述操作位置相一致。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，包括：

獲取所述第一區(qū)域距離所述投影模塊的第一距離與所述操作位置距離所述投影模塊的第二距離之間的距離差值；

依據(jù)所述距離差值，獲取所述投影模塊的投射強(qiáng)度變動參數(shù)；

依據(jù)所述投射強(qiáng)度變動參數(shù)，調(diào)整所述投影模塊的投射強(qiáng)度參數(shù)；

控制所述投影模塊以當(dāng)前投射強(qiáng)度參數(shù)將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的中心位置與所述操作位置相一致。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，包括：

獲取所述操作位置與所述投影模塊之間的第二距離值；

依據(jù)所述第二距離值，確定所述投影模塊的投射區(qū)域大小；

控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的大小與所述投射區(qū)域大小相一致，且所述第二區(qū)域的中心位置與所述操作位置相一致。

5.一種電子設(shè)備，其特征在于，所述電子設(shè)備包括投影模塊，所述投影模塊能夠在第一平面的第一區(qū)域投射第一虛擬輸入界面，所述電子設(shè)備還包括監(jiān)測模塊，所述監(jiān)測模塊用來監(jiān)測用戶操作體，所述電子設(shè)備還包括：

位置獲取單元，用于利用所述監(jiān)測模塊獲取所述用戶操作體的操作位置；

投射控制單元，用于控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域與所述操作位置相一致，且所述第二區(qū)域與所述第一區(qū)域不同。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述投射控制單元包括：

第一值獲取子單元，用于獲取所述操作位置與所述投影模塊之間的第一距離值；

角度獲取子單元，用于依據(jù)所述第一距離值，獲取所述投影模塊的投射變動角度；

角度調(diào)整子單元，用于調(diào)整所述投影模塊轉(zhuǎn)動所述投射變動角度；

第一控制子單元，用于控制所述投影模塊以當(dāng)前投射角度將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的中心位置與所述操作位置相一致。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述投射控制單元包括：

第二值獲取子單元，用于獲取所述第一區(qū)域距離所述投影模塊的第一距離與所述操作位置距離所述投影模塊的第二距離之間的距離差值；

強(qiáng)度獲取子單元，用于依據(jù)所述距離差值，獲取所述投影模塊的投射強(qiáng)度變動參數(shù)；

強(qiáng)度調(diào)整子單元，用于依據(jù)所述投射強(qiáng)度變動參數(shù)，調(diào)整所述投影模塊的投射強(qiáng)度參數(shù)；

第二控制子單元，用于控制所述投影模塊以當(dāng)前投射強(qiáng)度參數(shù)將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的中心位置與所述操作位置相一致。

8.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的電子設(shè)備，其特征在于，所述投射控制單元包括：

第三值獲取子單元，用于獲取所述操作位置與所述投影模塊之間的第二距離值；

區(qū)域確定子單元，用于依據(jù)所述第二距離值，確定所述投影模塊的投射區(qū)域大小；

第三控制子單元，用于控制所述投影模塊將所述第一虛擬輸入界面投射到第二區(qū)域，所述第二區(qū)域的大小與所述投射區(qū)域大小相一致，且所述第二區(qū)域的中心位置與所述操作位置相一致。