[發明專利]一種鍍膜玻璃及其應用

在審

• 申請號: 201410073394.3
• 申請日: 2014-02-28
• 公開（公告）號: CN104875444A
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發明（設計）人: 易鏡明
• 申請（專利權）人: 易鏡明
• 主分類號: B32B17/06
• 分類號: B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36
• 代理公司: 深圳中一專利商標事務所 44237
• 代理人: 張全文

技術領域

本發明涉及玻璃領域，具體涉及一種鍍膜玻璃及其應用。

背景技術

目前磁控濺射鍍膜工藝中，鍍膜主要分為金屬層及非金屬介質干涉層；干涉層材料通常是氮化硅鋁、氧化鋅錫、氧化鋅錫銻、氧化錫、氧化鋅鋁、氧化鈦等幾種物質，而現有的研究主要集中在對膜層中的介質層的材料進行改進變更。

由于工藝及成本的原因，制造介質層的陰極靶材通常也是金屬或金屬合金，在鍍膜過程中，通常采用磁控濺射工藝將材料用電離的工藝氣體氬氣離子濺射出來，在此過程中濺射出來的粒子與通入的反應氣體氧氣或者氮氣反應，形成具有低吸收、穩定、有一定折射率的介質化合物（氧化物或者氮化物）。由此，產出的介質膜的成份受氣氛影響，物理性質并不十分穩定，最終表征在產品的各個性質上面，并且膜層的折射率也會有一定的變動；同時，氧化反應產生大量的熱，嚴重影響濺射效率及增大設備的熱負荷影響；膜層中的富余物氧或氮由于存在遷移還能進入前后金屬膜層并產生負面影響。例如：氧化物中殘余的氧可以遷移到銀層，導致銀層氧化，輻射率升高。

另外，上述磁控濺射鍍膜是通過合理組合介質層與金屬層的搭配，在實現所需節能性能的基礎上并通過調整各個膜層的厚度來形成需要的干涉顏色、反射率、透射率等外觀指標。光的干涉涉及介質材料中的一個比較重要的指標就是材料的折射率。按照相長（高反射區）干涉與相消（弱反射區）干涉原理，折射率越大能形成的光強區或減反射區越寬，例如，減反膜及高反膜就是低折射率與高折射率材料組合并通過相干作用實現最理想的相長或相消以達到最理想的高反射或者低反射。

然而，在上述原有的介質材料中，氮化硅鋁、氧化鋅錫、氧化鋅錫銻、氧化錫、氧化鋅鋁、氧化鈦等氧化物或氮化硅的折射率在1.98左右，用這些介質材料生產高性能雙銀及三銀低輻射玻璃時將面臨一個問題，想要獲得較高的性能，就要加厚功能層--銀層，這將讓產品的反射及透射的拐點多處于400-640nm范圍內，這樣，不僅不能獲得高透高性能的產品，而且偏色也會很嚴重。

而氧化鈦的折射率在2.35左右，按照氧化鈦的折射率本可以做出節能指標高的雙銀低輻射玻璃，并且有效的解決偏色問題，但是，氧化鈦氧敏感性非常強且價態及晶型較多，導致濺射產生物、膜層結構及折射率不穩定，給產品的均勻性、重復性帶來了不確定，因此，目前這種材料因不能滿足低輻射鍍膜玻璃的高要求而已經被淘汰了。

發明內容

本發明的目的在于克服現有技術的上述不足，制造一種新的鍍膜玻璃，旨在解決現有技術中鍍膜玻璃中的介質層折射率不高，在濺射過程中物化性能不穩定，并隨之影響金屬膜層，且目前鍍膜玻璃偏色情況嚴重、綜合性能不佳的問題。

本發明的另一目的是提供一種鍍膜玻璃在建筑鍍膜產品中的應用。

為了實現上述發明目的，本發明的技術方案如下：

一種鍍膜玻璃，包括玻璃基片和在所述玻璃基片一表面層疊結合的第一介質層，所述第一介質層外表面層疊結合至少一個功能單元，所述每一功能單元由鄰近所述第一介質層向外依次層疊結合有抗氧化層、功能層、另一相同的抗氧化層和另一相同的介質層，其中，所述介質層為摻雜金屬的碳化硅膜層。

以及，上述鍍膜玻璃在建筑鍍膜產品中的應用。

上述鍍膜玻璃具有以下有益技術效果：(1)利用摻雜金屬的碳化硅膜層的高折射率顯著拓寬了在可見光區的透射區間，改善目前低輻射玻璃的偏色問題，提高了產品的視覺品質；(2)利用碳化硅高硬度和極低的膨脹系數增強新產品膜層的穩定性，為可鋼化技術的實現提供可能；(3)在介質層與功能層之間層疊結合的抗氧化層進一步防止介質層對功能層的接觸污染，保證各膜層的穩定；(4)設置多層抗氧化層、功能層以及摻雜金屬的碳化硅膜層來調節各膜層之間的干涉結果的差異，從而實現最為理想的相干顏色效果。

上述鍍膜玻璃利用摻雜金屬的碳化硅膜層的高折射率、高硬度和低膨脹系數提高鍍膜玻璃的穩定性和可鋼化處理性，同時改善其偏色效果，使其可用于制備減反膜、高反膜、節能膜等產品，并可應用于建筑鍍膜產品領域。

附圖說明

圖1為本發明實施例中只含有一個功能單元的鍍膜玻璃的結構示意圖；

圖2為本發明實施例中含有兩個功能單元的鍍膜玻璃的結構示意圖。

具體實施方式

為了使本發明要解決的技術問題、技術方案及有益效果更加清楚明白，以下結合實施例與附圖，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，并不用于限定本發明。