[發(fā)明專利]環(huán)形電極微腔激光器無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410072139.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-02-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103811997A | 公開(公告)日: | 2014-05-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂曉萌;鄒靈秀;龍衡;黃永箴 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類號(hào): | H01S5/10 | 分類號(hào): | H01S5/10;H01S5/042 |
| 代理公司: | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 曹玲柱 |
| 地址: | 100083 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 環(huán)形 極微 激光器 | ||
1.一種環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,包括:
襯底(100);
微腔激光器(200),形成于所述襯底(100)上;
第一導(dǎo)電類型的圖形化電極(300),其材料為金屬,其形狀呈環(huán)形,形成于所述微腔激光器(200)頂部的外側(cè)邊緣;
第二導(dǎo)電類型的電極,當(dāng)所述襯底(100)為絕緣襯底時(shí),形成于所述微腔激光器(200)的側(cè)面;當(dāng)所述襯底(100)為導(dǎo)電襯底時(shí),形成于所述襯底(100)背面或者所述微腔激光器(200)的側(cè)面;
其中,第一導(dǎo)電類型和第二導(dǎo)電類型分別是p型和n型中的其中之一。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述微腔激光器為圓盤形、三角形,正方形,六邊形或者八邊形;
所述第一導(dǎo)電類型的圖形化電極為形成于該圓盤形、三角形,正方形,六邊形或者八邊形微腔激光器頂部的外側(cè)邊緣的環(huán)形。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述微腔激光器為圓盤形,所述第一導(dǎo)電類型的圖形化電極為形成于該圓盤形微腔激光器外側(cè)邊緣的圓環(huán)形。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述圓環(huán)形的寬度d介于1/8R~1/2R之間,其中,R為微腔激光器的半徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述R介于1μm到50μm之間,所述第一導(dǎo)電類型的圖形化電極的厚度介于5nm至500μm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述環(huán)形電極的材料選自于以下材料中的一種或多種組成的合金:Au、Ag、Al、Pt、Cu。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述微腔激光器自下而上包括:下限制層(210)、有源層(220)和上限制層(230)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述下限制層(210)和上限制層(230)為相同的III-V族材料限制層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述有源層的材料為InGaAs、InGaAsP或AlGaInAs。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至6中任一項(xiàng)所述的環(huán)形電極微腔激光器,其特征在于,所述襯底的材料為:藍(lán)寶石、III-V族材料或IV族材料。
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