[發明專利]用于高氨氮廢水短程硝化后的厭氧氨氧化裝置在審
| 申請號: | 201410071944.8 | 申請日: | 2014-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN103819001A | 公開(公告)日: | 2014-05-28 |
| 發明(設計)人: | 王營利 | 申請(專利權)人: | 天津機科環保科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F3/30 | 分類號: | C02F3/30 |
| 代理公司: | 天津市三利專利商標代理有限公司 12107 | 代理人: | 閆俊芬 |
| 地址: | 300191 天津市南開區復康*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 高氨氮 廢水 短程 硝化 厭氧氨 氧化 裝置 | ||
技術領域
本發明屬于廢水處理技術領域,尤其涉及一種用于高氨氮廢水短程硝化后的厭氧氨氧化裝置。
背景技術
高氨氮一直是廢水治理的難題,自從“十二五”把氨氮作為約束性污染物的控制指標后,對于產生高氨氮廢水的行業來說(如制藥、皮革、化工等),迫切需要在滿足處理效率的基礎上能以企業接受的成本處理廢水的技術。而傳統的生物脫氮技術一般指硝化-反硝化工藝,該工藝存在曝氣量大、藥耗大、處理高濃度氨氮廢水效果差等特點。
厭氧氨氧化技術在厭氧條件下以氨氮為電子供體,亞硝態氮作為電子受體,最終生成氮氣。與傳統的硝化反硝化技術相比,厭氧氨氧化工藝具有很多優點:(1)由于氨氮可以直接用作反硝化反應的電子供體,因此,不需要外加有機物做電子供體,既可節省費用,又可防止二次污染。(2)硝化反應每氧化1molNH4+消耗氧氣2mol,而在厭氧氨氧化反應中,每氧化1molNH4+只需要0.75mol氧氣,耗氧減少62.5%,從而使供氧能耗大大降低。所以,厭氧氨氧化工藝作為一種運行費用低且高效的工藝愈來愈受到大家的重視,并開展了大量研究。
但是,厭氧氨氧化工藝的工業化應用還要解決以下問題:1)受有機物影響,限制厭氧氨氧化反應;2)增殖速度慢,啟動需要大量時間;3)毒性物質不利于生長;4)泥水分離效果差、污泥流失較嚴重的問題;5)溫度控制不易控制問題;6)過高的氨氮,亞硝氮濃度對厭氧氨氧化菌有抑制作用;7)對光敏感。
發明內容
本發明的目的是提供一種用于高氨氮廢水短程硝化后的厭氧氨氧化裝置,以解決上述現有技術中存在的受有機物影響,限制厭氧氨氧化反應的缺陷。
為實現本發明的目的,本發明提供了一種用于高氨氮廢水短程硝化后的厭氧氨氧化裝置,其特征在于,所述厭氧氨氧化裝置包括依次相通的有機物降解區、氣力提升區、脫氮主反應區、膜過濾區,所述有機物降解區用于對廢水中的有機物進行降解;所述氣力提升區用于將降解后的廢水排入所述脫氮主反應區;所述脫氮主反應區用于對廢水脫氮;所述膜過濾區用于對廢水進行過濾。
其中,所述氣力提升區設置有氣力提升裝置,所述氣力提升裝置包括立管、連接方管、多個支管、風機,多個所述支管并排設于所述氣力提升區下部,每個所述支管頂部和底部分別設有一排孔,設于頂部的孔與設于底部的孔位置相對應,所述連接方管與多個所述支管相連通,所述立管下端與所述連接方管相連通,上端與所述風機連接,所述氣力提升裝置以3%的曝氣供氣量作為動力形成10-600:1的泥水混合物高倍循環。
其中,所述有機物降解區設有多個隔板,多個所述隔板形成上下迂回的水流通道。
其中,所述脫氮主反應區設有填料、曝氣系統、攪拌系統、pH計、溫度計、加熱棒、酸投加系統及控制系統,所述填料填充在所述脫氮主反應區內,所述曝氣系統設置于所述脫氮主反應區的底部,所述攪拌系統設置于所述脫氮主反應區的下部,所述攪拌系統包括攪拌機和動力機構,所述攪拌機與所述脫氮主反應區之間設有網,所述酸投加系統包括酸儲罐和泵,所述泵通過管道與所述脫氮反應區相通,所述PH計與所述溫度計與控制系統相連,所述控制系統與所述泵和所述加熱棒相連,所述脫氮主反應區頂部設有氣體排放口。
其中,所述膜過濾區設有簾式中空纖維膜。
其中,所述脫氮主反應區的頂部設有不透光密封蓋。
本發明的有益效果為,與現有技術作比較,本發明設有專用的有機物降解區,對廢水中的有機物進行降解,減輕了有機物對主反應的影響。
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖;
圖2是本發明沿a-a剖面結構示意圖;
圖3是本發明沿b-b剖面結構示意圖;
圖4是本發明沿c-c剖面結構示意圖;
圖5是本發明提供的氣力提升裝置俯視結構示意圖;
圖中,1-酸儲罐,2-泵,3-控制系統,4-溫度計,5-pH計,6-加熱棒,7-填料,8-曝氣系統,9-攪拌系統,10-網,11-氣體排放口,12-出水,13-風機,14-隔板,15-立管,16-連接方管,17-支管。
具體實施方式
為了使本發明的目的、技術方案及有益效果更加清楚明白,以下結合實施例,對本發明進行進一步詳細說明。應當理解為此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明,并不用于限制本發明的保護范圍。
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