[發明專利]一種薄壁陶瓷管的燒結裝置在審
| 申請號: | 201410071896.2 | 申請日: | 2014-02-28 |
| 公開(公告)號: | CN103884176A | 公開(公告)日: | 2014-06-25 |
| 發明(設計)人: | 宋春軍;秦曉英;辛紅星;張建;李地;劉永飛;李亮亮 | 申請(專利權)人: | 中國科學院合肥物質科學研究院 |
| 主分類號: | F27B5/04 | 分類號: | F27B5/04;F27B5/06 |
| 代理公司: | 安徽合肥華信知識產權代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
| 地址: | 230031 安徽*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 薄壁 陶瓷 燒結 裝置 | ||
1.一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,包括由爐體、設置在爐體內底部上的底座構成的高溫爐,其特征在于:所述底座上設置有一個或多個保護裝置,每個保護裝置分別由放置在底座上的保護底座、口下底上倒扣在保護底座上的保護坩堝構成,且保護坩堝與保護底座形成密閉空間,每個保護裝置內分別設置有一個或多個燒結坯體,每個燒結坯體分別由燒結底座坯體、燒結陶瓷管坯體構成,所述燒結底座坯體被保護坩堝罩住并放置在保護底座上,所述燒結陶瓷管坯體以口下底上的方式放置于燒結底座坯體上。
2.根據權利要求1所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:每個燒結坯體中,燒結底座坯體具有圓片形狀。
3.根據權利要求1所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:燒結底座坯體頂部設置有單個圓形凹槽或單圈圓環凹槽,所述燒結陶瓷管坯體其口部置于圓形凹槽或圓環凹槽中。
4.根據權利要求1所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:燒結底座坯體頂部設置有至少兩圈同心的圓形凹槽,燒結陶瓷管坯體有至少兩個,且燒結陶瓷管坯體直徑依次增大,直徑較大的燒結陶瓷管坯體依次共中心軸套在直徑較小的燒結陶瓷管坯體外,其中直徑最小的燒結陶瓷管坯體其口部置于燒結底座坯體最內圈的圓形凹槽中,其余燒結陶瓷管坯體各自口部分別一一對應置于燒結底座坯體其余圓形凹槽中。
5.根據權利要求1所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:燒結底座坯體頂部設置有至少兩圈同心的圓環凹槽,燒結陶瓷管坯體有至少兩個,且燒結陶瓷管坯體直徑依次增大,直徑較大的燒結陶瓷管坯體依次共中心軸套在直徑較小的燒結陶瓷管坯體外,其中直徑最小的燒結陶瓷管坯體其口部置于燒結底座坯體最內圈的圓環凹槽中,其余燒結陶瓷管坯體各自口部分別一一對應置于燒結底座坯體其余圓環凹槽中。
6.根據權利要求1所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:燒結底座坯體頂部設置有至少兩個同心分布的圓形凹槽和圓環凹槽,燒結陶瓷管坯體有至少兩個,且燒結陶瓷管坯體直徑依次增大,直徑較大的燒結陶瓷管坯體依次共中心軸套在直徑較小的燒結陶瓷管坯體外,燒結陶瓷管坯體各自口部分別一一對應置于燒結底座坯體圓形或圓環凹槽中。
7.根據權利要求3或4或6所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:所述圓形凹槽的直徑大于口部放入的燒結陶瓷管坯體的外徑。
8.根據權利要求3或5或6所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置:其特征在于:所述圓環凹槽的外徑大于口部放入的燒結陶瓷管坯體的外徑,圓環凹槽的內徑小于口部放入的燒結陶瓷管坯體的內徑。
9.根據權利要求1所述的一種薄壁陶瓷管的燒結裝置,其特征在于:所述保護底座為圓片形狀,保護底座頂部可設置供保護坩堝口部扣上的凸臺,或者是供保護坩堝口部扣入的凹槽,且保護坩堝口部與保護底座之間接觸面經過拋光加工。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院合肥物質科學研究院,未經中國科學院合肥物質科學研究院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410071896.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





