[發(fā)明專利]一種真空磁控軸瓦減磨合金層濺鍍工藝

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410068373.2
• 申請日: 2014-02-27
• 公開（公告）號: CN104878353A
• 公開（公告）日: 2015-09-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 木儉樸
• 申請（專利權(quán)）人: 煙臺大豐軸瓦有限責(zé)任公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16
• 代理公司: 山東舜天律師事務(wù)所 37226
• 代理人: 呂志彬

1.一種真空磁控軸瓦減磨合金層濺鍍工藝，包括以下步驟：

（1）?在軸瓦鋼背上澆鑄或燒結(jié)銅基合金層，形成軸瓦基體；

（2）將軸瓦基體在濺鍍設(shè)備外進(jìn)行除油清洗，清洗后由高壓風(fēng)機(jī)對軸瓦基體吹干處理；

（3）軸瓦基體安裝于濺鍍設(shè)備內(nèi)并對濺鍍設(shè)備艙內(nèi)做抽真空處理,達(dá)到真空度要求以后再向濺鍍設(shè)備艙內(nèi)加入惰性氣體，所述惰性氣體為氬氣；

（4）在軸瓦基體和靶材之間建立電磁場，電磁場電源由外部接入濺鍍設(shè)備艙內(nèi)，其中電源正極接入靶材位置從而在濺鍍設(shè)備艙內(nèi)形成電磁場陽極；電源負(fù)極接入軸瓦基體位置從而在濺鍍設(shè)備艙內(nèi)形成電磁場陰極；

（5）啟動電源對軸瓦基體的內(nèi)圓面濺鍍鎳柵層，軸瓦基體為燒結(jié)在鋼背上的銅基合金，靶材為純度99%的鎳靶，電磁場能量通過惰性氣體氬氣對濺鍍設(shè)備艙內(nèi)處于陽極位置的靶材進(jìn)行轟擊，靶材的中性粒子被轟擊濺射并沉積到處于陰極位置的軸瓦基體的內(nèi)圓面形成鎳柵層；

（6）關(guān)閉電源，把接入濺鍍設(shè)備的電源的正負(fù)極互換，將電源負(fù)極接入靶材位置從而在濺鍍設(shè)備艙內(nèi)形成電磁場陰極；電源正極接入軸瓦基體位置從而在濺鍍設(shè)備艙內(nèi)形成電磁場陽極；

（7）啟動電源，由于濺鍍設(shè)備艙內(nèi)電磁場的陰陽極互換，電磁場能量也轉(zhuǎn)變?yōu)檗Z擊處于陽極位置的軸瓦基體，從而對軸瓦內(nèi)圓面經(jīng)步驟5形成的鎳柵層進(jìn)行刻蝕，刻蝕時間控制在90-120秒之間；

（8）完成步驟7后關(guān)閉電源，再次將接入濺鍍設(shè)備的電源的正負(fù)極互換，使濺鍍設(shè)備艙內(nèi)陰陽極回到步驟4的狀態(tài)，即靶材處于濺鍍設(shè)備艙內(nèi)陽極位置，經(jīng)步驟6被刻蝕過鎳柵層的軸瓦基體處于濺鍍設(shè)備艙內(nèi)陰極位置；

（9）啟動電源向被刻蝕過鎳柵層的軸瓦基體濺鍍合金減磨層，靶材更換為AlSn40Cu,靶材的中性粒子經(jīng)轟擊濺射并沉積到處于陰極位置的經(jīng)過步驟7得到的軸瓦基體內(nèi)圓面表面鎳柵層上形成減磨合金層；

（10）冷卻后取出軸瓦。