[發明專利]溶液制膜方法

有效

• 申請號: 201410067399.5
• 申請日: 2014-02-26
• 公開（公告）號: CN104072791B
• 公開（公告）日: 2019-04-05
• 發明（設計）人: 繼枝愛;鷲谷公人;池山昭弘
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08L1/12;C08K9/06;C08K3/36
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

本發明提供一種防止向薄膜的長邊方向拉伸的條紋的產生的溶液制膜方法。本發明制作一種由第1濃液(41)和第2濃液(42)構成的3層結構的薄膜。第2濃液(42)中包含微粒(14)。微粒(14)通過疏水基即三甲基硅烷基被進行表面包覆處理。微粒(14)的表面包覆率至少為0.012。從流延模(65)共流延而從傳送帶(62)剝離第1濃液(41)和第2濃液(42)，并通過拉幅機(35)和輥干燥裝置(36)進行干燥以作為薄膜(10)。

技術領域

本發明涉及一種溶液制膜方法。

背景技術

聚合物薄膜廣泛用作偏光板保護薄膜和相位差薄膜等各種光學用途的薄膜，近年來越來越要求薄膜化。作為這種光學用途的代表性聚合物薄膜有纖維素酰化物薄膜。被用作光學用途的纖維素酰化物薄膜主要通過溶液制膜來制造。眾所周知，制造長形的纖維素酰化物薄膜的溶液制膜方法中，使溶劑中溶解了纖維素酰化物的纖維素酰化物溶液從流延膜向行駛的流延支承體連續流出。由此，作為薄膜從流延支承體剝離形成于流延支承體上的流延膜并進行干燥，由此獲得纖維素酰化物薄膜。

纖維素酰化物溶液中通常包含所謂去光劑即微粒。去光劑是用來提高薄膜的耐劃擦性和光滑性，并防止薄膜被卷成輥狀時彼此黏在一起的物質。因此，當制造單層結構的薄膜時使形成其薄膜的纖維素酰化物溶液中、而當制造多層結構的薄膜時使形成成為薄膜面的外側層的纖維素酰化物溶液中包含去光劑。作為用作去光劑的微粒通常為二氧化硅(二氧化硅)微粒。

當使用包含二氧化硅微粒的纖維素酰化物溶液時，有時出現二氧化硅凝聚，且進入到薄膜中的凝聚物散射光或反射光的現象。因此，為抑制這種二氧化硅的凝聚，例如在日本專利公開2006-070240號公報中提出：包含纖維素酰化物、添加劑、溶劑及表面被進行疏水化處理的二氧化硅，且二氧化硅的疏水化率以甲醇濕潤性(MW)值計為20％以下的纖維素酰化物溶液。

另外，盡管包含二氧化硅也將霧度抑制得較低并提高組裝于液晶顯示裝置時的對比度，為此日本專利公開2007-017626號公報中記載有下述光學薄膜。該光學薄膜具備由有機化合物構成的層、及含有二氧化硅且分子量為1000以下的有機化合物的含量為二氧化硅含量的30質量％以下的層，且二氧化硅的MW滿足0≤MW≤80。并且，盡管包含二氧化硅而降低霧度和黑色亮度，為此日本專利公開2006-265382號公報中記載有如下內容，即作為包含于纖維素酰化物溶液中的二氧化硅使用MW的范圍為80＜MW≤100的二氧化硅，并且使用在二氧化硅中不存在5μm以上的粗粒的纖維素酰化物溶液。

隨著薄膜的薄膜化，為了使去光劑顯現充分的功能，與以往相比需要增加二氧化硅的量。但是，若增加二氧化硅的量，則會在所獲薄膜的薄膜面上確認到向薄膜的長邊方向拉伸的條紋狀的瑕疵。即使在使用日本專利公開2006-070240號公報、日本專利公開2007-017626號公報及日本專利公開2006-265382號公報中記載的二氧化硅或纖維素酰化物溶液的情況下增加二氧化硅的量，也導致該條紋狀的瑕疵的產生。

發明內容

因此，本發明的目的在于提供一種通過使用二氧化硅來防止在薄膜面上產生向薄膜的長邊方向拉伸的瑕疵的溶液制膜方法。

本發明的溶液制膜方法具備流延步驟(步驟A)及剝離干燥步驟(步驟B)。步驟A中，通過使溶劑中溶解了聚合物的聚合物溶液從流延膜向連續行駛的流延支承體上連續流出，以向流延支承體上形成流延膜。聚合物溶液包含二氧化硅微粒。微粒表面至少以0.012的表面包覆率被疏水基所包覆。步驟B中，從流延支承體上剝離流延膜以進行干燥。

當聚合物為纖維素酰化物時，上述溶液制膜方法尤為有效。

優選疏水基的至少一部分為三甲基硅烷基。